发明授权
- 专利标题： Liquid metal ion source and apparatus
- 专利标题（中）： 液态金属离子源及仪器
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申请号： US674771申请日： 1984-11-26
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公开(公告)号： US4624833A公开(公告)日： 1986-11-25
- 发明人: Kaoru Umemura , Tohru Ishitani , Toshiyuki Aida , Hifumi Tamura
- 申请人： Kaoru Umemura , Tohru Ishitani , Toshiyuki Aida , Hifumi Tamura
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX58-222033 19831128
- 主分类号： C22C19/03
- IPC分类号： C22C19/03 ; H01J1/02 ; H01J27/26 ; H01J37/08 ; H01J1/05
摘要：
A liquid metal ion source for emitting P ions, wherein a Cu alloy which contains at most 25 at. % of P and if necessary, further contains Ag, C or Si, and/or B is melted and fed to an emitter tip so as to generate an ion beam under a high electric field.
公开/授权文献
- US6124311A Methods for treating resistant tumors 公开/授权日：2000-09-26
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