发明授权
US5182495A Plasma processing method and apparatus using electron cyclotron resonance
失效
使用电子回旋共振的等离子体处理方法和装置
- 专利标题： Plasma processing method and apparatus using electron cyclotron resonance
- 专利标题（中）： 使用电子回旋共振的等离子体处理方法和装置
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申请号： US619338申请日： 1990-11-29
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公开(公告)号： US5182495A公开(公告)日： 1993-01-26
- 发明人: Takuya Fukuda , Michio Ohue , Tadasi Sonobe
- 申请人： Takuya Fukuda , Michio Ohue , Tadasi Sonobe
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人： Hitachi, Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX1-307718 19891129
- 主分类号： C23C14/40
- IPC分类号： C23C14/40 ; C23C14/34 ; C23C14/35 ; C23C16/50 ; C23C16/511 ; C23F4/00 ; H01J37/32 ; H01L21/203 ; H01L21/205 ; H01L21/302 ; H01L21/3065 ; H01L21/31
摘要：
In a plasma processing apparatus using ECR, faces in contact with plasma excepting a substance to be processed are covered by an insulating material. By such configuration, discharge caused between the plasma and the substance to be processed in plasma processing is prevented beforehand.
公开/授权文献
- US5583598A Film cartridge loading mechanism for photographic camera 公开/授权日：1996-12-10
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