发明授权
US5466389A PH adjusted nonionic surfactant-containing alkaline cleaner composition
for cleaning microelectronics substrates
失效
PH调节的含非离子表面活性剂的碱性清洁剂组合物用于清洁微电子基板
- 专利标题： PH adjusted nonionic surfactant-containing alkaline cleaner composition for cleaning microelectronics substrates
- 专利标题（中）： PH调节的含非离子表面活性剂的碱性清洁剂组合物用于清洁微电子基板
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申请号： US230132申请日： 1994-04-20
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公开(公告)号： US5466389A公开(公告)日： 1995-11-14
- 发明人: Joseph M. Ilardi , George Schwartzkopf , Gary G. Dailey
- 申请人： Joseph M. Ilardi , George Schwartzkopf , Gary G. Dailey
- 申请人地址： NJ Phillipsburg
- 专利权人： J. T. Baker Inc.
- 当前专利权人： J. T. Baker Inc.
- 当前专利权人地址： NJ Phillipsburg
- 主分类号： C11D10/02
- IPC分类号： C11D10/02 ; C11D1/66 ; C11D3/02 ; C11D3/30 ; H01L21/304 ; H01L21/306 ; H01L21/308 ; C11D7/06 ; C11D7/08 ; C23G1/14
摘要：
Aqueous alkaline cleaning solutions for cleaning microelectronic substrates and maintaining substrate surface smoothness comprise a metal ion free base, a nonionic surfactant and a component to reduce or control the pH of the cleaning solution to a pH within the range of from about pH 8 to about pH 10.
公开/授权文献
- US6093023A Dental implants with external polygonal head 公开/授权日：2000-07-25
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