公开(公告)号：US5466389A

公开(公告)日：1995-11-14

申请号：US230132

申请日：1994-04-20

申请人： Joseph M. Ilardi ,  George Schwartzkopf ,  Gary G. Dailey

发明人： Joseph M. Ilardi ,  George Schwartzkopf ,  Gary G. Dailey

IPC分类号： C11D10/02 ,  C11D1/66 ,  C11D3/02 ,  C11D3/30 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/308 ,  C11D7/06 ,  C11D7/08 ,  C23G1/14

CPC分类号： C11D3/30 ,  C11D1/66 ,  C11D11/0047 ,  C11D3/0047 ,  C11D3/042 ,  C11D3/044 ,  C11D3/046 ,  H01L21/02063

摘要： Aqueous alkaline cleaning solutions for cleaning microelectronic substrates and maintaining substrate surface smoothness comprise a metal ion free base, a nonionic surfactant and a component to reduce or control the pH of the cleaning solution to a pH within the range of from about pH 8 to about pH 10.

摘要翻译： 用于清洁微电子衬底和保持衬底表面光滑度的水性碱性清洁溶液包括金属离子游离碱，非离子表面活性剂和组分，以将清洁溶液的pH降低至约pH至约pH范围内 10。