发明授权
- 专利标题： Resist material and pattern formation process
- 专利标题（中）： 抵抗材料和图案形成过程
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申请号： US898265申请日： 1992-06-15
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公开(公告)号： US5468589A公开(公告)日： 1995-11-21
- 发明人: Fumiyoshi Urano , Hirotoshi Fujie , Keiji Oono , Takaaki Negishi
- 申请人： Fumiyoshi Urano , Hirotoshi Fujie , Keiji Oono , Takaaki Negishi
- 申请人地址： JPX Osaka JPX Kodoma
- 专利权人： Wako Pure Chemical Industries, Ltd.,Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
- 当前专利权人： Wako Pure Chemical Industries, Ltd.,Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Osaka JPX Kodoma
- 优先权： JPX3-173197 19910618; JPX3-274829 19910926
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/028 ; G03F7/039 ; G03F7/26 ; H01L21/027
摘要：
A resist composition comprising (a) a polymer having at least repeating units of the formulae: ##STR1## (b) a photoacid generator and (c) a solvent, has high sensitivity to light, excellent heat resistance, adhesiveness to a substrate and suitable for pattern formation with high resolution.
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