发明授权
US5786131A Process for use of photoresist composition with deep ultraviolet
radiation
失效
使用具有深紫外线辐射的光刻胶组合物的方法
- 专利标题： Process for use of photoresist composition with deep ultraviolet radiation
- 专利标题（中）： 使用具有深紫外线辐射的光刻胶组合物的方法
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申请号： US678868申请日： 1996-07-12
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公开(公告)号： US5786131A公开(公告)日： 1998-07-28
- 发明人: Robert David Allen , Richard Anthony DiPietro , Gregory Michael Wallraff
- 申请人： Robert David Allen , Richard Anthony DiPietro , Gregory Michael Wallraff
- 申请人地址： NY Armonk
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： NY Armonk
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/004 ; H01L21/027 ; G03C5/00 ; G03C1/492
摘要：
The present invention relates to a process for generating a resist image on a substrate utilizing a resist composition comprising (a) a radiation-sensitive acid generator, (b) a substituted androstane, and (c) a copolymer acrylate binder. The resist image is made using deep ultraviolet radiation.
公开/授权文献
- US4091793A Solar collector 公开/授权日：1978-05-30
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