发明授权
US6045978A Chemically treated photoresist for withstanding ion bombarded processing
失效
化学处理的光致抗蚀剂，用于耐受离子轰击处理
- 专利标题： Chemically treated photoresist for withstanding ion bombarded processing
- 专利标题（中）： 化学处理的光致抗蚀剂，用于耐受离子轰击处理
-
申请号： US211700申请日： 1998-12-14
-
公开(公告)号： US6045978A公开(公告)日： 2000-04-04
- 发明人: Dean Tran , William L. Jones , Harvey N. Rogers
- 申请人： Dean Tran , William L. Jones , Harvey N. Rogers
- 申请人地址： CA Redondo Beach
- 专利权人： TRW Inc.
- 当前专利权人： TRW Inc.
- 当前专利权人地址： CA Redondo Beach
- 主分类号： G03F7/075
- IPC分类号： G03F7/075 ; H01L21/027 ; G03C1/76
摘要：
A photosensitive photoresist material which is effective for use as an ion etch barrier layer after patterning. The photoresist composition includes the reaction product of a compound having the general formula R.sub.1 --COO--(CH.sub.2).sub.n --O--R.sub.2 and a silylating agent.
公开/授权文献
- US5624914A Lipophilic oligosaccharide antibiotic salt compositions 公开/授权日：1997-04-29
信息查询
IPC分类:
