Copolymer for photoresist

发明授权

US6063896A Copolymer for photoresist 失效

标题翻译：光刻胶共聚物

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专利标题： Copolymer for photoresist
专利标题（中）： 光刻胶共聚物
申请号： US881122

申请日： 1997-06-24
公开(公告)号： US6063896A

公开(公告)日： 2000-05-16
发明人: Jae Chang Jung , Cheol Kyu Bok
申请人： Jae Chang Jung , Cheol Kyu Bok
申请人地址： KRX Ichon-shi
专利权人： Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.
当前专利权人： Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.
当前专利权人地址： KRX Ichon-shi
优先权： KRX96-23281 19960624
主分类号： G03F7/033
IPC分类号： G03F7/033 ; C08F220/12 ; C08F222/40 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; H01L21/027 ; C08G73/10 ; G03C1/495

摘要：

A copolymer of maleimide derivative and acrylic acid, represented by Formula I, is of high etch resistance and thermal resistance and can be used for photoresist in submicrolithography. ##STR1##

摘要（中）：

由式I表示的马来酰亚胺衍生物和丙烯酸的共聚物具有高耐蚀刻性和耐热性，并且可用于亚微光刻中的光致抗蚀剂。

公开/授权文献

US4668673A Bicycle benzo-oxy heterocyclic ethers and thioethers, pharmaceutical compositions and use 公开/授权日：1987-05-26

信息查询

Global Dossier Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）
G03F7/027	..具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物（G03F7/075优先）
G03F7/032	...含有黏结剂的
G03F7/033	....通过反应而得到的仅包含碳—碳不饱和键的黏结剂聚合物，例如，乙烯基聚合物