发明授权
US07311797B2 Productivity enhancing thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor
有权
用于等离子体反应器的生产率增强热喷涂含氧化钇的涂层
- 专利标题： Productivity enhancing thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor
- 专利标题（中）： 用于等离子体反应器的生产率增强热喷涂含氧化钇的涂层
-
申请号： US10180504申请日： 2002-06-27
-
公开(公告)号： US07311797B2公开(公告)日： 2007-12-25
- 发明人: Robert J. O'Donnell , John E. Daugherty
- 申请人： Robert J. O'Donnell , John E. Daugherty
- 申请人地址： US CA Fremont
- 专利权人： Lam Research Corporation
- 当前专利权人： Lam Research Corporation
- 当前专利权人地址： US CA Fremont
- 代理机构： Buchanan Ingersoll & Rooney PC
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; C23C16/00
摘要：
Components of semiconductor processing apparatus comprise thermal sprayed yttria-containing coatings that provide erosion, corrosion and/or corrosion-erosion resistance in plasma atmospheres. The coatings can protect substrates from physical and/or chemical attack.
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
