发明授权
- 专利标题： Mask haze early detection
- 专利标题（中）： 面罩雾霭早期检测
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申请号： US11866514申请日： 2007-10-03
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公开(公告)号： US07796249B2公开(公告)日： 2010-09-14
- 发明人: Wen-Chuan Wang , Shy-Jay Lin , Te-Chih Huang , Chih-Ming Ke , Wei-Yu Su , Heng-Hsin Liu , Tsai-Sheng Gau , Chin-Hsiang Lin
- 申请人： Wen-Chuan Wang , Shy-Jay Lin , Te-Chih Huang , Chih-Ming Ke , Wei-Yu Su , Heng-Hsin Liu , Tsai-Sheng Gau , Chin-Hsiang Lin
- 申请人地址： TW Hsin-Chu
- 专利权人： Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
- 当前专利权人： Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.
- 当前专利权人地址： TW Hsin-Chu
- 代理机构： Haynes and Boone, LLP
- 主分类号： G01N21/00
- IPC分类号： G01N21/00
摘要：
Detecting haze formation on a mask by obtaining an optical property of the mask and determining progress of the haze formation based on the obtained optical property.
公开/授权文献
- US20090063074A1 Mask Haze Early Detection 公开/授权日：2009-03-05
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