发明授权
- 专利标题： Compositions and processes for photolithography
- 专利标题（中）： 光刻的组成和工艺
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申请号： US12454516申请日： 2009-05-19
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公开(公告)号： US07955778B2公开(公告)日： 2011-06-07
- 发明人: Michael K. Gallagher , Deyan Wang
- 申请人： Michael K. Gallagher , Deyan Wang
- 申请人地址： US MA Marlborough
- 专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人地址： US MA Marlborough
- 代理商 Jonathan D. Baskin
- 主分类号： G03C1/492
- IPC分类号： G03C1/492 ; G03C1/494 ; G03C1/76 ; G03C5/00
摘要：
Overcoating layer compositions are provided that are applied above a photoresist composition including for immersion lithography processing as well as non-immersion imaging.
公开/授权文献
- US20090233224A1 Compositions and processes for photolithography 公开/授权日：2009-09-17
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