发明授权
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US11798928申请日： 2007-05-17
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公开(公告)号： US08023101B2公开(公告)日： 2011-09-20
- 发明人: Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders , Nicolaas Ten Kate , Michel Riepen , Sergei Shulepov
- 申请人： Martinus Hendrikus Antonius Leenders , Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders , Nicolaas Ten Kate , Michel Riepen , Sergei Shulepov
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52
摘要：
An immersion lithographic apparatus is disclosed in which a gas knife is shaped and a liquid removal device is positioned to improve removal of liquid from the surface of the substrate.
公开/授权文献
- US20080007704A1 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2008-01-10
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