发明授权
- 专利标题： Compositions and processes for photolithography
- 专利标题（中）： 光刻的组成和工艺
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申请号： US11542563申请日： 2006-10-03
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公开(公告)号： US08158325B2公开(公告)日： 2012-04-17
- 发明人: Deyan Wang , Cheng-Bai Xu
- 申请人： Deyan Wang , Cheng-Bai Xu
- 申请人地址： US MA Marlborough
- 专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人地址： US MA Marlborough
- 代理机构： Edwards Wildman Palmer, LLP
- 代理商 Peter F. Corless; Darryl P. Frickey
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/30
摘要：
Overcoating layer compositions that are applied above a photoresist composition including for immersion lithography processing as well as non-immersion imaging.
公开/授权文献
- US20070087286A1 Compositions and processes for photolithography 公开/授权日：2007-04-19
信息查询
IPC分类:
