发明授权
- 专利标题： Flood exposure process for dual tone development in lithographic applications
- 专利标题（中）： 光刻应用中双音发展的泛滥暴露过程
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申请号： US12430203申请日： 2009-04-27
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公开(公告)号： US08568964B2公开(公告)日： 2013-10-29
- 发明人: Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
- 申请人： Carlos A. Fonseca , Mark Somervell , Steven Scheer , Wallace P. Printz
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Tokyo Electron Limited
- 当前专利权人： Tokyo Electron Limited
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Wood, Herron & Evans, LLP
- 主分类号： G03F7/30
- IPC分类号： G03F7/30
摘要：
A method and system for patterning a substrate using a dual tone development process is described. The method and system comprise a flood exposure of the substrate to improve process latitude for the dual tone development process.