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    Variable Resist Protecting Groups
    1.
    发明申请
    Variable Resist Protecting Groups 有权
    可变电阻保护组

    公开(公告)号：US20100075238A1

    公开(公告)日：2010-03-25

    申请号：US12561001

    申请日：2009-09-16

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/54

    CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/095 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.

    摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

    Variable resist protecting groups
    3.
    发明授权
    Variable resist protecting groups 有权
    可变抗蚀剂保护基

    公开(公告)号：US08129080B2

    公开(公告)日：2012-03-06

    申请号：US12561001

    申请日：2009-09-16

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/095 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.

    摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

    Using electric-field directed post-exposure bake for double-patterning (D-P)
    5.
    发明授权
    Using electric-field directed post-exposure bake for double-patterning (D-P) 有权
    使用电场定向后曝光烘烤进行双重图案化（D-P）

    公开(公告)号：US08097402B2

    公开(公告)日：2012-01-17

    申请号：US12415505

    申请日：2009-03-31

    申请人： Steven Scheer ,  Mark Somervell

    发明人： Steven Scheer ,  Mark Somervell

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： H01L21/0332 ,  H01L21/0337

    摘要： The invention provides a method of processing a substrate using Double-Patterning (D-P) processing sequences and Electric-Field Enhanced Layers (E-FELs). The D-P processing sequences and E-FELs can be used to create lines, trenches, vias, spacers, contacts, and gate structures using a minimum number of etch processes.

    摘要翻译： 本发明提供使用双图案（D-P）处理序列和电场增强层（E-FEL）处理衬底的方法。 D-P处理序列和E-FEL可以用于使用最少数量的蚀刻工艺来产生线，沟槽，通孔，间隔物，接触和栅极结构。

    Dual Tone Development Processes
    8.
    发明申请
    Dual Tone Development Processes 有权
    双音发展过程

    公开(公告)号：US20100119960A1

    公开(公告)日：2010-05-13

    申请号：US12560873

    申请日：2009-09-16

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.

    摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

    METHOD FOR CREATING GRAY-SCALE FEATURES FOR DUAL TONE DEVELOPMENT PROCESSES
    9.
    发明申请
    METHOD FOR CREATING GRAY-SCALE FEATURES FOR DUAL TONE DEVELOPMENT PROCESSES 有权
    用于创建双色调开发过程的灰度特征的方法

    公开(公告)号：US20100068654A1

    公开(公告)日：2010-03-18

    申请号：US12334852

    申请日：2008-12-15

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G06G7/48

    CPC分类号： G03F7/70283 ,  G03F5/16 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method of patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The patterning method comprises forming a layer of radiation-sensitive material on a substrate, wherein the layer of radiation-sensitive material comprises a dual tone resist. Thereafter, the patterning method comprises performing one or more exposures of the layer of radiation-sensitive material to one or more patterns of radiation, wherein at least one of the one or more exposures comprises using a mask having a dual-tone mask pattern region configured for printing dual tone features and a half-tone mask pattern region configured for printing half-tone features. Furthermore, the half-tone mask pattern region is optimized for use with the dual tone resist.

    摘要翻译： 描述使用双音发展过程对衬底进行构图的方法。 图案化方法包括在衬底上形成辐射敏感材料层，其中辐射敏感材料层包括双色调抗蚀剂。 此后，图案化方法包括对辐射敏感材料层进行一次或多次曝光，以一个或多个辐射图案，其中一个或多个曝光中的至少一个曝光包括使用配置有双色调掩模图案区域的掩模 用于打印双色特征和配置用于打印半色调特征的半色调蒙版图案区域。 此外，半色调掩模图案区域被优化用于双色调抗蚀剂。

    Use of blended solvents in defectivity prevention
    10.
    发明申请
    Use of blended solvents in defectivity prevention 有权
    使用混合溶剂防止缺陷

    公开(公告)号：US20060241004A1

    公开(公告)日：2006-10-26

    申请号：US11111211

    申请日：2005-04-21

    申请人： Mark Somervell ,  Benjamen Rathsack ,  David Hall

    发明人： Mark Somervell ,  Benjamen Rathsack ,  David Hall

    IPC分类号： C11D9/00

    CPC分类号： G03F7/168

    摘要： The present invention provides a blended solvent for solubilizing an ultraviolet photoresist. The blended solvent comprises a mixture of from about 5 vol % to about 95 vol % of a first solvent, wherein the first solvent comprises a cyclic ester. A balance of the mixture comprises a second solvent, wherein the second solvent comprises a volatile organic liquid.

    摘要翻译： 本发明提供了用于溶解紫外光致抗蚀剂的混合溶剂。 混合溶剂包括约5体积％至约95体积％的第一溶剂的混合物，其中第一溶剂包含环状酯。 混合物的余量包括第二溶剂，其中第二溶剂包含挥发性有机液体。