发明授权
- 专利标题： Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 曝光装置，曝光方法和装置制造方法
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申请号： US13299891申请日： 2011-11-18
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公开(公告)号： US08724077B2公开(公告)日： 2014-05-13
- 发明人: Hiroyuki Nagasaka , Kenichi Shiraishi , Tomoharu Fujiwara , Soichi Owa , Akihiro Miwa
- 申请人： Hiroyuki Nagasaka , Kenichi Shiraishi , Tomoharu Fujiwara , Soichi Owa , Akihiro Miwa
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oliff PLC
- 优先权： JP2005-120185 20050418
- 主分类号： G03B27/32
- IPC分类号： G03B27/32 ; G03B27/42 ; G03F7/20
摘要：
An exposure apparatus includes an immersion space forming member (70) which fills an optical path space (K1) for exposure light (EL) with a first liquid (LQ) to form an immersion space, and a temperature regulating mechanism (60) which suppresses a change in the temperature of the immersion space forming member (70) accompanying deactivation of formation of the immersion space.
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