发明授权
- 专利标题： Curable composition for imprints, patterning method and pattern
- 专利标题（中）： 可印刷的组合物，图案化方法和图案
-
申请号： US14139971申请日： 2013-12-24
-
公开(公告)号： US08999221B2公开(公告)日： 2015-04-07
- 发明人: Kunihiko Kodama , Kyouhei Sakita , Hiroyuki Yonezawa
- 申请人： FUJIFILM Corporation
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JP2008-308838 20081203; JP2009-005590 20090114; JP2009-176416 20090729
- 主分类号： B29C35/08
- IPC分类号： B29C35/08 ; C08F2/48 ; C08F220/18 ; C09D4/00
摘要：
Provided is a curable composition for imprints having good patternability and dry etching resistance. Disclosed is a curable composition for imprints comprising at least one kind of polymerizable monomer selected from the following compounds and a photopolymerization initiator;
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
