发明授权
- 专利标题： Vacuum processing apparatus
- 专利标题（中）： 真空加工设备
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申请号： US12191373申请日： 2008-08-14
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公开(公告)号： US09150964B2公开(公告)日： 2015-10-06
- 发明人: Hiroyuki Kobayashi , Masaru Izawa , Kenetsu Yokogawa , Kenji Maeda
- 申请人： Hiroyuki Kobayashi , Masaru Izawa , Kenetsu Yokogawa , Kenji Maeda
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
- 当前专利权人： HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Baker Botts L.L.P.
- 优先权： JP2008-149021 20080606
- 主分类号： C23C14/00
- IPC分类号： C23C14/00 ; C23C16/44 ; H01L21/67 ; H01L21/677
摘要：
There is a vacuum processing apparatus which can reduce the amount of foreign particle occurrence by enhancing the ease of maintenance of a gas diffuser installing portion in the vacuum processing apparatus. A gas diffuser chamber for accommodating a gas diffuser is installed in the vacuum processing apparatus.
公开/授权文献
- US20090301392A1 VACUUM PROCESSING APPARATUS 公开/授权日：2009-12-10
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IPC分类:
