发明授权
- 专利标题： Acid generators and photoresists comprising same
- 专利标题（中）： 含酸产生剂和含有它的光致抗蚀剂
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申请号： US13854078申请日： 2013-03-30
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公开(公告)号： US09256125B2公开(公告)日： 2016-02-09
- 发明人: Emad Aqad , Irvinder Kaur , Cong Liu , Cheng-Bai Xu
- 申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 申请人地址： US MA Marlborough
- 专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
- 当前专利权人： Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
- 当前专利权人地址： US MA Marlborough
- 代理机构： Mintz Levin Cohn Ferris Glovsky and Popeo, P.C.
- 代理商 Peter F. Corless
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07D319/06 ; C07D317/34 ; C07D317/72 ; C07D319/08 ; C07C309/12 ; G03F7/039
摘要：
Acid generator compounds are provided that comprise an oxo-1,3-dioxolane moiety and/or an oxo-1,3-dioxane moiety. The acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.
公开/授权文献
- US20140295347A1 ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME 公开/授权日：2014-10-02
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