Invention Application
- Patent Title: 放熱基板
- Patent Title (English): Heat dissipating substrate
- Patent Title (中): 热消散基板
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Application No.: PCT/JP2012/060585Application Date: 2012-04-19
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Publication No.: WO2012147610A1Publication Date: 2012-11-01
- Inventor: 福井 彰 , 藤本 正雄 , 武田 良宏 , 柴戸 政宏
- Applicant: 株式会社アライドマテリアル , 福井 彰 , 藤本 正雄 , 武田 良宏 , 柴戸 政宏
- Applicant Address: 〒1050014 東京都港区芝一丁目11番11号 Tokyo JP
- Assignee: 株式会社アライドマテリアル,福井 彰,藤本 正雄,武田 良宏,柴戸 政宏
- Current Assignee: 株式会社アライドマテリアル,福井 彰,藤本 正雄,武田 良宏,柴戸 政宏
- Current Assignee Address: 〒1050014 東京都港区芝一丁目11番11号 Tokyo JP
- Agency: 特許業務法人深見特許事務所
- Priority: JP2011-100937 20110428
- Main IPC: H01L23/373
- IPC: H01L23/373 ; B32B9/00 ; C22C26/00 ; H01L23/12 ; H01L23/14 ; H01L23/36
Abstract:
本放熱基板(1)は、第1の金属ダイヤモンド複合層(11)と、第2の金属ダイヤモンド複合層(12)と、第1の金属ダイヤモンド複合層(11)と第2の金属ダイヤモンド複合層(12)との間に配置された芯材層(10)と、を含み、第1の金属ダイヤモンド複合層(11)および第2の金属ダイヤモンド複合層(12)は、それぞれのダイヤモンド含有率が50体積%未満であり、芯材層(10)は、主面に平行な方向の熱膨張係数が4.5×10 -6 K -1 以上13×10 -6 K -1 以下で、厚さ方向の熱伝導率が140W・m -1 ・K -1 以上である。これにより、半導体素子を搭載または保持するために適した熱膨張係数と高い熱伝導率とを有する低価格の放熱基板が提供される。
Public/Granted literature
- WO2012147610A9 放熱基板 Public/Granted day:2012-11-01
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IPC分类: