-
公开(公告)号：CN116702301A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310974734.9
申请日：2023-08-04
申请人： 中国电子工程设计院有限公司 , 世源科技工程有限公司
摘要： 本发明公开了一种集成电路产线多级仿真布局的生成方法及装置，方法包括如下步骤：获取集成电路产线布局的需求设备，形成待布局设备清单；按照工艺区域、生产单元和设备的模块层级，对待布局设备清单中的待布局设备进行标签化处理，获得包含模块层级信息的集成电路产线布局数据清单；基于集成电路产线布局数据清单，结合多级布局策略，完成集成电路产线多级仿真布局。本发明结合智能多模块层级的方法，针对超大规模的集成电路生产线，实现快速、精准的产线布局。
-
公开(公告)号：CN110439331A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910736089.0
申请日：2019-08-09
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本发明涉及洁净生产技术领域，公开了一种洁净厂房，包括厂房本体，厂房本体内设有核心洁净室，并设有核心洁净室上夹层、核心洁净室下夹层以及连通核心洁净室上夹层以及核心洁净室下夹层的核心洁净室回风夹道；其中，核心洁净室回风夹道背离核心洁净室的一侧设有边跨支持区，边跨支持区内设有边跨洁净室，并设有位于边跨洁净室顶部的边跨洁净室上夹层以及位于边跨洁净室底部的边跨洁净室下夹层；边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层分别与核心洁净室回风夹道连通，和/或，边跨洁净室远离核心洁净室的一侧与厂房本体的墙体之间设有用于连通边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层的边跨洁净室回风夹道。
-
公开(公告)号：CN116702301B
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310974734.9
申请日：2023-08-04
申请人： 中国电子工程设计院有限公司 , 世源科技工程有限公司
摘要： 本发明公开了一种集成电路产线多级仿真布局的生成方法及装置，方法包括如下步骤：获取集成电路产线布局的需求设备，形成待布局设备清单；按照工艺区域、生产单元和设备的模块层级，对待布局设备清单中的待布局设备进行标签化处理，获得包含模块层级信息的集成电路产线布局数据清单；基于集成电路产线布局数据清单，结合多级布局策略，完成集成电路产线多级仿真布局。本发明结合智能多模块层级的方法，针对超大规模的集成电路生产线，实现快速、精准的产线布局。
-
公开(公告)号：CN110556317A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910743777.X
申请日：2019-08-13
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明公开一种半导体加工系统，以提高半导体生产厂房中的洁净空间的利用率。该半导体加工系统，包括：多个半导体加工组，相邻的两个半导体加工组之间设置有操作通道，半导体加工组包括搬运装置，搬运装置运动轨道，以及两排工艺设备，工艺设备包括装载接口，其中：针对每个半导体加工组，两排工艺设备相对交错设置，且装载接口的朝向相反；搬运装置运动轨道设置于工艺设备上方，搬运装置可沿搬运装置运动轨道运动，并将搬运的电子器件在制品输送到对应的装载接口。
-
公开(公告)号：CN110469159A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201910739471.7
申请日：2019-08-12
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本发明提供了一种洁净厂房，该洁净厂房包括并排排列且间隔设置的至少两个洁净室，每个洁净室包括依次层叠的回风层、中间层、静压箱，以及用于连通回风层与静压箱的回风夹道。中间层具有带孔楼板与回风层连通，其上部则通过安装在吊顶上的风机过滤单元与静压箱连通；静压箱用于给中间层输送洁净空气保证中间层形成符合要求的洁净区，回风层用于回收洁净区内的空气。洁净厂房还包括设置在任意相邻的两个洁净室之间且用于容纳净化空调机组的共用支持室，净化空调机组用于将室外空气处理为洁净空气，并将洁净空气送至静压箱。通过设置至少两个并排排列且间隔设置的洁净室，以减少洁净厂房的占地面积，扩大单个洁净厂房的洁净区面积。
-
公开(公告)号：CN110556317B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN201910743777.X
申请日：2019-08-13
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明公开一种半导体加工系统，以提高半导体生产厂房中的洁净空间的利用率。该半导体加工系统，包括：多个半导体加工组，相邻的两个半导体加工组之间设置有操作通道，半导体加工组包括搬运装置，搬运装置运动轨道，以及两排工艺设备，工艺设备包括装载接口，其中：针对每个半导体加工组，两排工艺设备相对交错设置，且装载接口的朝向相反；搬运装置运动轨道设置于工艺设备上方，搬运装置可沿搬运装置运动轨道运动，并将搬运的电子器件在制品输送到对应的装载接口。
-
公开(公告)号：CN210713993U
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201921297704.4
申请日：2019-08-12
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本实用新型提供了一种洁净厂房，该洁净厂房包括并排排列且间隔设置的至少两个洁净室，每个洁净室包括依次层叠的回风层、中间层、静压箱，以及用于连通回风层与静压箱的回风夹道。中间层具有带孔楼板与回风层连通，其上部则通过安装在吊顶上的风机过滤单元与静压箱连通；静压箱用于给中间层输送洁净空气保证中间层形成符合要求的洁净区，回风层用于回收洁净区内的空气。洁净厂房还包括设置在任意相邻的两个洁净室之间且用于容纳净化空调机组的共用支持室，净化空调机组用于将室外空气处理为洁净空气，并将洁净空气送至静压箱。通过设置至少两个并排排列且间隔设置的洁净室，以减少洁净厂房的占地面积，扩大单个洁净厂房的洁净区面积。
-
公开(公告)号：CN210713990U
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201921296901.4
申请日：2019-08-09
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本实用新型涉及洁净生产技术领域，公开了一种洁净厂房，包括厂房本体，厂房本体内设有核心洁净室，并设有核心洁净室上夹层、核心洁净室下夹层以及连通核心洁净室上夹层以及核心洁净室下夹层的核心洁净室回风夹道；其中，核心洁净室回风夹道背离核心洁净室的一侧设有边跨支持区，边跨支持区内设有边跨洁净室，并设有位于边跨洁净室顶部的边跨洁净室上夹层以及位于边跨洁净室底部的边跨洁净室下夹层；边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层分别与核心洁净室回风夹道连通，和/或，边跨洁净室远离核心洁净室的一侧与厂房本体的墙体之间设有用于连通边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层的边跨洁净室回风夹道。
-
公开(公告)号：CN109405198B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN201811349374.9
申请日：2018-11-14
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： F24F11/58 , F24F11/88 , F24F11/52 , F24F11/89 , F24F11/54 , F24F11/46 , F24F11/64 , F24F11/38 , F24F11/72
摘要： 本发明公开了一种厂务系统洁净室运维节能系统，包括数据采集传感器、物联网传感器、决策器逻辑电路、现场控制器、远端计算机；数据采集传感器包括第一～第五传感器，第一～第五传感器一方面与决策逻辑电路相连、另一方面与现场控制器相连；所述物联网传感器的输出端与决策器逻辑电路输入端相连，决策逻辑电路与现场控制器相连，现场控制器与远端计算机相连，远端计算机包括策略库存储器，远端计算机内设置有能耗分析平台，能耗分析平台上设置有能耗管理信息系统。本发明还公开了一种厂务系统洁净室运维节能优化方法。本发明实时数据采集和精确控制的优化装置，在保障洁净系统新风覆盖和洁净度指标要求下节能降耗，适用于优化厂务系统的洁净室运维系统。
-
公开(公告)号：CN109516618A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201811352656.4
申请日：2018-11-14
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： C02F9/08 , C02F103/04
摘要： 本发明公开了一种超纯水智能远程运维系统，基于超净水制备设备而设置，包括：智能运维平台，还包括基于智能运维平台控制的维修维护模块、备件耗材管理模块、设备管理模块、数据分析模块、故障诊断及预测模块、安全管理模块。本发明基于大数据的处理与分析能够更好的控制超纯水制备设备的工作，保证制备出更符合标准的超纯水。本发明适用于所有超纯水制备设备。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
45 条记录 (耗时 0.114 秒)
