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公开(公告)号：CN116702301A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310974734.9
申请日：2023-08-04
申请人： 中国电子工程设计院有限公司 , 世源科技工程有限公司
摘要： 本发明公开了一种集成电路产线多级仿真布局的生成方法及装置，方法包括如下步骤：获取集成电路产线布局的需求设备，形成待布局设备清单；按照工艺区域、生产单元和设备的模块层级，对待布局设备清单中的待布局设备进行标签化处理，获得包含模块层级信息的集成电路产线布局数据清单；基于集成电路产线布局数据清单，结合多级布局策略，完成集成电路产线多级仿真布局。本发明结合智能多模块层级的方法，针对超大规模的集成电路生产线，实现快速、精准的产线布局。
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公开(公告)号：CN110439331A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910736089.0
申请日：2019-08-09
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本发明涉及洁净生产技术领域，公开了一种洁净厂房，包括厂房本体，厂房本体内设有核心洁净室，并设有核心洁净室上夹层、核心洁净室下夹层以及连通核心洁净室上夹层以及核心洁净室下夹层的核心洁净室回风夹道；其中，核心洁净室回风夹道背离核心洁净室的一侧设有边跨支持区，边跨支持区内设有边跨洁净室，并设有位于边跨洁净室顶部的边跨洁净室上夹层以及位于边跨洁净室底部的边跨洁净室下夹层；边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层分别与核心洁净室回风夹道连通，和/或，边跨洁净室远离核心洁净室的一侧与厂房本体的墙体之间设有用于连通边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层的边跨洁净室回风夹道。
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公开(公告)号：CN110307609A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201910628399.0
申请日：2019-07-12
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
发明人： 杨光明
摘要： 本申请涉及平板显示生产线自动化搬送系统中的存储装置，公开了一种洁净室用仓储，包括：物料传输区；位于物料传输区两侧的两个物料存储区，每一个物料存储区包括一卡匣组件，卡匣组件包括多层卡匣，每一层卡匣包括至少一个卡匣组，每一个卡匣组包括至少两个卡匣和至少一个设置于卡匣组一侧、用于连通外部与卡匣内部、以使外部的气体进入卡匣组内后沿卡匣的排列方向流动的第一风机过滤机组；位于两个物料存储区顶部、以覆盖物料传输区的吊顶，吊顶设有多个用于连通外部与物料传输区的第二风机过滤机组。本申请公开的洁净室用仓储，有效地降低了输入物料存储区内部的风量，降低了能耗。
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公开(公告)号：CN116702301B
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310974734.9
申请日：2023-08-04
申请人： 中国电子工程设计院有限公司 , 世源科技工程有限公司
摘要： 本发明公开了一种集成电路产线多级仿真布局的生成方法及装置，方法包括如下步骤：获取集成电路产线布局的需求设备，形成待布局设备清单；按照工艺区域、生产单元和设备的模块层级，对待布局设备清单中的待布局设备进行标签化处理，获得包含模块层级信息的集成电路产线布局数据清单；基于集成电路产线布局数据清单，结合多级布局策略，完成集成电路产线多级仿真布局。本发明结合智能多模块层级的方法，针对超大规模的集成电路生产线，实现快速、精准的产线布局。
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公开(公告)号：CN110539956A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201910725149.9
申请日：2019-08-07
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本发明涉及平板显示器技术领域，公开了一种卡匣围护装置，该卡匣围护装置包括箱体，箱体的底部设有用于固定卡匣的支撑座，箱体在与卡匣的开口相对应的一侧设有用于打开或关闭箱体的门板；箱体上还设有风扇，且风扇与卡匣之间设有空气过滤器，当第一门板打开时，箱体上形成风扇的排风口，此时，风扇工作，风扇吸入外部空气，外部空气经过空气过滤器的过滤后吹向卡匣，并由排风口排出。上述实施例中，通过设置箱体将卡匣包覆并固定在内部，并在箱体上设置用于取放玻璃基板的门板，用于将外部空气吸入箱体内并从排风口排出的风扇，以及位于风扇与卡匣之间用于过滤空气的空气过滤器，使得该卡匣围护结构不仅具有防尘功能，还具有自净化功能。
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公开(公告)号：CN210713990U
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201921296901.4
申请日：2019-08-09
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
摘要： 本实用新型涉及洁净生产技术领域，公开了一种洁净厂房，包括厂房本体，厂房本体内设有核心洁净室，并设有核心洁净室上夹层、核心洁净室下夹层以及连通核心洁净室上夹层以及核心洁净室下夹层的核心洁净室回风夹道；其中，核心洁净室回风夹道背离核心洁净室的一侧设有边跨支持区，边跨支持区内设有边跨洁净室，并设有位于边跨洁净室顶部的边跨洁净室上夹层以及位于边跨洁净室底部的边跨洁净室下夹层；边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层分别与核心洁净室回风夹道连通，和/或，边跨洁净室远离核心洁净室的一侧与厂房本体的墙体之间设有用于连通边跨洁净室上夹层以及边跨洁净室下夹层的边跨洁净室回风夹道。
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公开(公告)号：CN210345716U
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201921097787.2
申请日：2019-07-12
申请人： 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院有限公司
发明人： 杨光明
摘要： 本申请涉及平板显示生产线自动化搬送系统中的存储装置，公开了一种洁净室用仓储，包括：物料传输区；位于物料传输区两侧的两个物料存储区，每一个物料存储区包括一卡匣组件，卡匣组件包括多层卡匣，每一层卡匣包括至少一个卡匣组，每一个卡匣组包括至少两个卡匣和至少一个设置于卡匣组一侧、用于连通外部与卡匣内部、以使外部的气体进入卡匣组内后沿卡匣的排列方向流动的第一风机过滤机组；位于两个物料存储区顶部、以覆盖物料传输区的吊顶，吊顶设有多个用于连通外部与物料传输区的第二风机过滤机组。本申请公开的洁净室用仓储，有效地降低了输入物料存储区内部的风量，降低了能耗。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN116380981A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310669123.3
申请日：2023-06-07
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： G01N27/00
摘要： 本发明提供一种气相定量测定亚ppb级污染物的方法，应用于纯水污染物在线检测技术领域。先将待测试样和第一气体通入气体转移装置，测定液相出口处的第一试样的氢气和氧气浓度，然后从第一试样中移除自由基复合氧化剂、氧气以及氢气形成第二试样，测定第二试样中氢气和氧气浓度，最后赋予氢气浓度在第一试样和第二试样的变化量与溶解氧浓度在第一试样和第二试样变化量的耦合系数，计算得到自由基复合氧化剂的测定浓度。该方法具有多种检测模式，不仅可以在线检测亚ppb级污染物，还可以获得更大的检测区间，对于较高背景溶氧浓度的待测试样，也可获得低于0.2μg/l的检出限，同时采取主动防护手段，保护反应材料的高效活性，延长其使用寿命。
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公开(公告)号：CN115826548B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202310152028.6
申请日：2023-02-22
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： G05B19/418
摘要： 本发明公开了一种动态模拟半导体生产系统废气处理的方法及装置，方法包括如下步骤：采集目标半导体生产工艺，以及半导体生产系统中的设备布局信息；确定生产目标半导体的目标机台组、目标机台和生产物流路径；获取第一生产节拍和第二生产节拍，结合目标半导体的生产物流路径，给出目标机台及目标机台组所产生的废气数据；获取目标机台组的废气处理信息和第三生产节拍，结合时间控制指令，给出针对半导体生产系统废气处理的动态模拟。将生产设备和腔体进程、生产节拍等参数囊括，实现了半导体生产系统废气处理动态模拟，为设备选型、管路设计、动能用量提供更精准的参考。
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公开(公告)号：CN114291959B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210225886.4
申请日：2022-03-09
申请人： 中国电子工程设计院有限公司
IPC分类号： C02F9/10 , C02F103/04
摘要： 本发明公开一种有效去除总有机碳和弱离子化杂质的超纯水制备方法，包括：对原水进行预处理，得到过滤水，预处理包括至少一次过滤处理；对过滤水进行浅除盐操作，得到一次纯水，浅除盐操作包括对过滤水进行至少一次反渗透处理；对一次纯水进行深除盐操作，得到二次纯水，深除盐操作包括使一次纯水依次经过连续电除盐系统（31）、光催化真空紫外氧化器（32）、弱酸盐脱除塔（33）和氮气真空混合式膜脱气装置（34）进行处理；对二次纯水进行抛光处理，得到超纯水。上述方案能更有效地减少水中总有机碳和弱离子化杂质，从而使所制备的超纯水稳定满足新版国际标准ASTM D5127‑13（2018）《电子和半导体工业用超纯水的标准指南》中E‑1.1及以上要求。
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