公开(公告)号：CN112720182A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN202011431497.4

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 何巍 ,  袁宏伟 ,  祝连庆 ,  张雯 ,  董明利 ,  李红 ,  何彦霖

IPC分类号： B24B19/22 ,  B24B41/06 ,  G01N21/17

摘要： 本发明提供一种基于侧面抛磨的光纤pH传感结构的制备方法，首先，去掉光纤的涂覆层，此段长度为抛磨区长度，之后将光纤固定在抛磨机上，启动机器利用砂轮对抛磨区进行持续研磨，每隔一小时观测包层的剩余厚度，直至抛磨厚度达到要求。最后，取下光纤对抛磨区进行水凝胶的涂覆。该制备方法简单易操作，成本低，同时，通过该方法制备得到的基于侧面抛磨的光纤pH传感结构与现有技术相比较具有更高的灵敏度和稳定性。

公开(公告)号：CN112558215B

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202011431427.9

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学(CN)

发明人： 祝连庆 ,  何巍 ,  袁宏伟 ,  张雯 ,  董明利 ,  李红 ,  何彦霖

IPC分类号： G02B6/02

摘要： 本发明提供一种基于飞秒激光技术的阶跃型等栅距光栅及其制备方法，该方法利用飞秒激光技术在光纤基底材料上刻写三个光栅周期的等距光栅，其中第三光栅周期>第二光纤周期>第一光纤周期，并且三个光线周期呈等差数列，形成阶跃型等栅距光栅，该阶跃型等栅距光栅制备工艺简单，成本低，并且可以精确的控制刻写工艺，控制光栅栅线间距，制备精密的阶跃型等栅距光纤，用于位移传感器。

公开(公告)号：CN112558215A

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：CN202011431427.9

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 祝连庆 ,  何巍 ,  袁宏伟 ,  张雯 ,  董明利 ,  李红 ,  何彦霖

IPC分类号： G02B6/02

摘要： 本发明提供一种基于飞秒激光技术的阶跃型等栅距光栅及其制备方法，该方法利用飞秒激光技术在光纤基底材料上刻写三个光栅周期的等距光栅，其中第三光栅周期>第二光纤周期>第一光纤周期，并且三个光线周期呈等差数列，形成阶跃型等栅距光栅，该阶跃型等栅距光栅制备工艺简单，成本低，并且可以精确的控制刻写工艺，控制光栅栅线间距，制备精密的阶跃型等栅距光纤，用于位移传感器。

公开(公告)号：CN112729598A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN202011431429.8

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 祝连庆 ,  袁宏伟 ,  何巍 ,  张雯 ,  董明利 ,  李红 ,  何彦霖

IPC分类号： G01K11/32 ,  G02B6/25

摘要： 本发明提供一种基于侧面研磨传感臂结构的光纤Mach‑Zehnder干涉结构，该结构采用两支光纤耦合器相对熔接，构建光纤Mach‑Zehnder干涉结构，其中，光纤Mach‑Zehnder干涉结构的参考臂为单模光纤，传感臂为应用侧面研磨技术在单模光纤打磨的光泄露窗，以上干涉结构机构简单，应用于传感器可显著提升灵敏度。

公开(公告)号：CN112729141A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN202011438030.2

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 何巍 ,  袁宏伟 ,  祝连庆 ,  张雯 ,  董明利 ,  李红 ,  何彦霖

IPC分类号： G01B11/16 ,  G02B6/25 ,  G02B6/255

摘要： 本发明提供一种基于侧面抛磨的端面腐蚀光纤应变结构及制备方法，该制备方法使用氢氟酸腐蚀处理单模光纤，然后与另一个单模光纤熔接形成F‑P结构，然后使用侧面抛磨技术，根据需要打磨出不同尺寸的抛磨区，该制备方法操作简单，成本低廉，可根据需要制备不同尺寸的F‑P腔结构和抛磨区，所制备的光纤应变结构具有高度的灵敏性和稳定性。

公开(公告)号：CN112578493A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN202011431410.3

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 祝连庆 ,  何巍 ,  袁宏伟 ,  张雯 ,  董明利 ,  李红 ,  何彦霖

IPC分类号： G02B5/18

摘要： 本发明提供了一种具有自温度补偿功能光栅及其制备方法，通过紫外曝光和飞秒刻写在光线基底材料分别刻写变栅距光栅和等栅距光栅，光栅刻写完成后镀金膜制备成具有自温度补偿功能光栅，该方法制备的光栅可以有效的抵抗因环境温度变化带来的干扰，弥补光栅缺少温度补偿的缺陷。

公开(公告)号：CN110646878A

公开(公告)日：2020-01-03

申请号：CN201911070115.7

申请日：2019-11-05

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 祝连庆 ,  何巍 ,  袁宏伟 ,  张雯 ,  董明利 ,  娄小平 ,  杜中伟

IPC分类号： G02B6/02

摘要： 本发明公开了一种相移布拉格光纤光栅的快速制备方法，包括：利用飞秒激光通过逐点法刻写不具有相移结构的布拉格光纤光栅；将所述布拉格光纤光栅从中间位置切断，得到第一光栅和第二光栅；取长度大于所述布拉格光纤光栅长度的玻璃套管；将第一光栅固定在所述玻璃套管一端内；将第二光栅可滑动的设置在所述玻璃套管另一端内，且第二光栅与第一光栅同轴设置。本发明制作相移布拉格光纤光栅过程中，不需要昂贵的掩模版并搭建复杂的光路，成本较低、重复性高，易于实现器件的批量加工。制备的相移布拉格光纤光栅结构简单、制作方便，稳定性可靠，仅通过改变两段光栅的距离，即可实现不同长度大小的相移。

公开(公告)号：CN112747835A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN202011431395.2

申请日：2020-12-07

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 何巍 ,  袁宏伟 ,  祝连庆 ,  张雯 ,  董明利 ,  李红 ,  何彦霖

IPC分类号： G01K11/32 ,  B24B1/00

摘要： 本发明提供了一种基于侧面抛磨的多模光纤温度传感结构的制备方法，该方法使用多模光纤作为基底材料，通过抛磨机打磨出抛磨区，该方法操作简单，成本低，操作可精确控制，制备得到的多模光纤用于温度传感可灵敏的测定温度变化，测定的温度变化具有优良的线性。

公开(公告)号：CN109631777A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201811626487.9

申请日：2018-12-28

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 何巍 ,  袁宏伟 ,  祝连庆 ,  张雯 ,  董明利 ,  娄小平 ,  杜中伟

IPC分类号： G01B11/06

CPC分类号： G01B11/06

摘要： 本发明公开了提供一种侧抛光纤包层研磨厚度的预警方法及系统，包括激光发射器、透镜、CCD、驱动单元、放大滤波单元、A/D转换器、微机、报警器；激光发射器对侧抛光纤发射激光，出射光通过透镜形成干涉条纹图像并在CCD上显示，干涉条纹图像经过放大滤波、信号转换得到侧抛光纤的研磨厚度，微机利用加载的报警程序对研磨厚度值进行分析比对，当研磨厚度大于阈值时，发出警报。本发明预警系统结构简单，制作成本低，数据测量精确可靠，大大方便了工作人员对研磨程度的把控，具有预警功能，大大减小了断纤的可能。

公开(公告)号：CN109623538A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201811626486.4

申请日：2018-12-28

申请人： 北京信息科技大学

发明人： 何巍 ,  袁宏伟 ,  祝连庆 ,  张雯 ,  娄小平 ,  董明利 ,  刘锋

IPC分类号： B24B9/00 ,  B24B41/06 ,  B24B49/12

摘要： 本发明公开了一种基于可自转夹具的光纤侧抛方法，包括：步骤1、构建侧抛系统，侧抛系统包括底板，在底板上表面两端分别安装一自转夹具，待抛光纤可安装在自转夹具间并随自转夹具绕其轴心方向旋转，在自转夹具间安装二维步进位移台，二维步进位移台上安装有支撑板，支撑板上安装有研磨轮，二维步进位移台可带动研磨轮沿待抛光纤轴向和径向位移；步骤2、将待抛光纤固定在两自转夹具上，自转夹具同步旋转，带动待抛光纤绕其轴心方向旋转；步骤3、通过二维步进位移台带动研磨轮位移至待抛光纤的待抛区域，启动研磨轮，再通过二维步进位移台带动研磨轮径向位移靠近待抛光纤，对旋转状态的待抛光纤进行360度研磨。