公开(公告)号：CN102350364A

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN201110263063.2

申请日：2011-09-07

Applicant: 北京联合大学

Inventor： 马永新 ,  周友苏 ,  万春萍 ,  白先光

IPC: B01J27/00 ,  C02F1/30 ,  C23C14/32 ,  C23C14/06

CPC classification number: Y02W10/37

Abstract: 本发明提供一种泡沫金属载体负载掺氮二氧化钛光催化剂的制备方法，使用真空电弧离子镀工艺，制备的光催化剂的掺氮二氧化钛膜可均匀分布于多孔金属的表面，增加光催化剂催化反应接触面积，可使光催化剂具有较高的光催化活性。

公开(公告)号：CN1021062C

公开(公告)日：1993-06-02

申请号：CN90100946.6

申请日：1990-02-27

Applicant: 北京联合大学机械工程学院

Inventor： 王福贞 ,  袁哲 ,  唐希源 ,  周友苏 ,  张树林 ,  程永清

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明是一种新型电磁控阴极电弧源，应用于真空镀膜、离子镀膜、离子渗金属领域的设备中，其特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小，在靶面产生的磁感应强度在10°-10-ZT范围变化，阴极电弧弧斑在靶面上由小环到大环周期变化。靶材烧蚀均匀，靶材利用率高。

公开(公告)号：CN102350364B

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：CN201110263063.2

申请日：2011-09-07

Applicant: 北京联合大学

Inventor： 马永新 ,  周友苏 ,  万春萍 ,  白先光

IPC: B01J27/00 ,  C02F1/30 ,  C23C14/32 ,  C23C14/06

CPC classification number: Y02W10/37

Abstract: 本发明提供一种泡沫金属载体负载掺氮二氧化钛光催化剂的制备方法，使用真空电弧离子镀工艺，制备的光催化剂的掺氮二氧化钛膜可均匀分布于多孔金属的表面，增加光催化剂催化反应接触面积，可使光催化剂具有较高的光催化活性。

公开(公告)号：CN1054451A

公开(公告)日：1991-09-11

申请号：CN90100946.6

申请日：1990-02-27

Applicant: 北京联合大学机械工程学院

Inventor： 王福贞 ,  袁哲 ,  唐希源 ,  周友苏 ,  张树林 ,  程永清

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/30

Abstract: 本发明是采用电磁控阴极电弧源的镀渗设备，属于真空镀膜、离子镀膜、离子渗金属领域。其技术特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小。在靶面产生的轴向磁场分量和径向磁场分量在靶材径向不断变化，使场致发射式阴极电弧在靶面上均匀放电。阴极弧斑在靶面上由小圈到大圈周期变化，靶材烧蚀均匀，靶材利用率高、镀膜厚度均匀，渗金属件温度均匀，有效沉积速率高。适于镀渗细长工件、板材、厚涂层等。

公开(公告)号：CN1015003B

公开(公告)日：1991-12-04

申请号：CN88100549

申请日：1988-02-11

Applicant: 北京联合大学机械工程学院机电技术开发服务公司

Inventor： 王福贞 ,  周友苏 ,  刘文郁

IPC: C23C10/00

Abstract: 本发明是一种利用低气压弧光等离子体对金属工件渗入特定元素，以优化工件表面性能的技术和设备。它采用阴极电弧蒸发器作为离子渗金属时的蒸发源、离化源和加热源，产生高密度的金属离子流，同时对工件施加高负偏压，以吸引金属离子流加速到达工件，将工件加热至高温，离子渗入其表面。如可获得钨、钼、镍、铬、钛、铝、锆、钽、铌等金属渗层以及它们与碳、氮、氧的化合物渗镀层，提高渗金属效率和质量。

公开(公告)号：CN88100549A

公开(公告)日：1988-08-03

申请号：CN88100549

申请日：1988-02-11

Applicant: 北京联合大学机械工程学院机电技术开发服务公司

Inventor： 王福贞 ,  周友苏 ,  刘文郁

IPC: C23C10/00 ,  C23C14/32

Abstract: 本发明是一种利用低气压弧光等离子体对金属工件渗入特定元素，以优化工件表面性能的技术和设备。它采用阴极电弧蒸发器作为离子渗金属时的蒸发源、离化源和加热源，产生高密度的金属离子流，同时对工件施加高负偏压，以吸引金属离子流加速到达工件，将工件加热至高温，离子渗入其表面。如可获得钨、钼、镍、铬、钛、铝、锆、钽、铌等金属渗层以及它们与碳、氮、氧的化合物渗镀层，提高渗金属效率和质量。