公开(公告)号：CN110573547B

公开(公告)日：2022-06-10

申请号：CN201880024840.8

申请日：2018-04-27

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 大下梓纱 ,  竹越穰 ,  加藤充 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: C08G18/65 ,  H01L21/304 ,  B24B37/24

Abstract: 本发明提供作为具有席夫碱的二醇或其衍生物的含席夫碱的扩链剂，另外，还提供使用其制造的聚氨酯及其改性方法、包含聚氨酯的抛光层、使用了该抛光层的抛光方法。

公开(公告)号：CN107000157B

公开(公告)日：2019-12-13

申请号：CN201580062665.8

申请日：2015-11-12

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 门胁清文 ,  加藤晋哉 ,  冈本知大 ,  加藤充 ,  竹越穣

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/22 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种抛光层用成型体，其是非多孔性的且包含热塑性聚氨酯，所述热塑性聚氨酯是包含高分子二醇、有机二异氰酸酯、含有碳原子数为4以下的二醇的第1扩链剂、以及含有碳原子数为5以上的二醇的第2扩链剂的单体的聚合物，而且来自于有机二异氰酸酯的异氰酸酯基的氮的含有比例为6.3～7.4质量％。

公开(公告)号：CN107073678B

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201580057176.3

申请日：2015-10-27

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 门胁清文 ,  加藤晋哉 ,  冈本知大 ,  加藤充 ,  竹越穰

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/22 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种抛光层用非多孔性成型体，其是热塑性聚氨酯的非多孔性成型体，其中，热塑性聚氨酯在‑70～‑50℃范围的损耗角正切(tanδ)的最大值为4.00×10‑2以下。优选热塑性聚氨酯通过使数均分子量650～1400的高分子二醇、有机二异氰酸酯和扩链剂聚合而得到，且来自于有机二异氰酸酯的异氰酸酯基的氮的含有比例为5.7～6.5质量％。

公开(公告)号：CN109478507A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780043880.2

申请日：2017-07-26

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 竹越穣 ,  加藤充 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/24 ,  C08J5/14

Abstract: 本发明提供一种具有在pH10.0下的zeta电位为+0.1mV以上的抛光面的抛光垫。优选提供一种含有具有叔胺的聚氨酯的抛光垫。进一步优选具有叔胺的聚氨酯为至少含有具有叔胺的扩链剂的聚氨酯反应原料的反应物。另外，提供一种一边供给使用了这些抛光垫的碱性抛光浆料一边进行的抛光方法。

公开(公告)号：CN107000157A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580062665.8

申请日：2015-11-12

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 门胁清文 ,  加藤晋哉 ,  冈本知大 ,  加藤充 ,  竹越穣

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/22 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种抛光层用成型体，其是非多孔性的且包含热塑性聚氨酯，所述热塑性聚氨酯是包含高分子二醇、有机二异氰酸酯、含有碳原子数为4以下的二醇的第1扩链剂、以及含有碳原子数为5以上的二醇的第2扩链剂的单体的聚合物，而且来自于有机二异氰酸酯的异氰酸酯基的氮的含有比例为6.3～7.4质量％。

公开(公告)号：CN117980110A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202280064671.7

申请日：2022-09-27

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 砂山梓纱 ,  合志佑有子 ,  加藤充

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/48 ,  C08G18/66 ,  C08J5/14 ,  H01L21/304

Abstract: 一种抛光层用热塑性聚氨酯，其厚度2mm的片在50℃的水中饱和溶胀后的D硬度小于50，并且其厚度200μm的片与水的接触角为70度以下。

公开(公告)号：CN112839985B

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN201980067771.3

申请日：2019-11-01

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 砂山梓纱 ,  加藤充 ,  竹越穰 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: C08J7/12 ,  C08G18/34 ,  C08G18/38 ,  C08G18/65 ,  B24B37/24 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供具有羧酸酯基的抛光层用聚氨酯，优选使用在侧链、主链末端及主链骨架中的至少一者具有羧酸酯基的聚氨酯。另外，本发明提供一种抛光层的改性方法，该方法包括：准备包含具有羧酸酯基的聚氨酯的抛光层的工序；以及使聚氨酯的羧酸酯基水解而生成羧酸基的工序。

公开(公告)号：CN112105667A

公开(公告)日：2020-12-18

申请号：CN201980031163.7

申请日：2019-04-26

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 大下梓纱 ,  加藤充 ,  竹越穣 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: C08G18/83 ,  B24B37/24 ,  C08G18/67 ,  C08G18/68 ,  C08G18/69 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明使用包括准备具有烯属不饱和键的聚氨酯的工序、以及用含有具有共轭双键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法，或者使用包括准备具有共轭双键的聚氨酯的工序、以及用含有具有烯属不饱和键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法。

公开(公告)号：CN114286737B

公开(公告)日：2024-10-08

申请号：CN202080039388.X

申请日：2020-06-04

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 加藤充 ,  菊池博文 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/26 ,  B24B53/017 ,  H01L21/304

Abstract: 一种研磨垫，其包括具有研磨面的研磨层，研磨面具备：深槽区域，其具有由深度0.3mm以上的深槽或孔形成的第一图案；台面区域，其是除深槽区域以外的区域；台面区域具有：深度0.01～0.1mm的浅凹陷，其具有第二图案；多个岛状的台面部，其由浅凹陷包围，且水平方向的最大距离为8mm以下。

公开(公告)号：CN117980109A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202280064666.6

申请日：2022-09-22

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 合志佑有子 ,  加藤充 ,  杉冈尚

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/76 ,  C08J5/14 ,  C08L75/04 ,  C08L101/12 ,  H01L21/304

Abstract: 一种抛光垫，其包含抛光层，该抛光层是聚氨酯组合物的成型体，其中，聚氨酯组合物含有：包含非脂环式二异氰酸酯单元作为有机二异氰酸酯单元的热塑性聚氨酯90～99.9质量％、和吸湿性高分子0.1～10质量％，成型体具有利用基于JIS K 7215的D型硬度计得到的75～90的硬度。