公开(公告)号：CN101002308A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200580027119.7

申请日：2005-08-01

申请人： 株式会社明电舍 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

发明人： 西口哲也 ,  一村信吾 ,  野中秀彦 ,  森川良树 ,  野寄刚示 ,  花仓满

IPC分类号： H01L21/316 ,  C23C16/40

摘要： 一种氧化物膜形成设备，其包括反应器10，其中装有用于容纳基材100的加热器单元14；管道11，其上装有用于将含有机硅或有机金属的原料气体引入到反应器内的原料气体引入阀V1；管道12，其上装有用于将含臭氧气体引入到反应器10内的含臭氧气体引入阀V2；和管道13，其上装有用于将气体从反应器10中排出的排气阀13。当原料气体引入阀V1、含臭氧气体引入阀V2和排气阀V3进行打开－关闭操作，以交替地将原料气体和含臭氧气体供应到反应器10中时，含臭氧气体引入阀V2促使含臭氧气体的臭氧浓度下降到0.1体积％到100体积％范围内，并且加热器单元将基材的温度调节到室温到400℃的范围内。

公开(公告)号：CN100555582C

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200580027119.7

申请日：2005-08-01

申请人： 株式会社明电舍 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

发明人： 西口哲也 ,  一村信吾 ,  野中秀彦 ,  森川良树 ,  野寄刚示 ,  花仓满

IPC分类号： H01L21/316 ,  C23C16/40

摘要： 一种氧化物膜形成设备，其包括反应器10，其中装有用于容纳基材100的加热器单元14；管道11，其上装有用于将含有机硅或有机金属的原料气体引入到反应器内的原料气体引入阀V1；管道12，其上装有用于将含臭氧气体引入到反应器10同的含臭氧气体引入阀V2；和管道13，其上装有用于将气体从反应器10中排出的排气阀13。当原料气体引入阀V1、含臭氧气体引入阀V2和排气阀V3进行打开-关闭操作，以交替地将原料气体和含臭氧气体供应到反应器10中时，含臭氧气体引入阀V2促使含臭氧气体的臭氧浓度下降到0.1体积%到100体积%范围内，并且加热器单元将基材的温度调节到室温到400℃的范围内。

公开(公告)号：CN107614580B

公开(公告)日：2018-11-20

申请号：CN201680028950.2

申请日：2016-05-17

申请人： 株式会社明电舍

发明人： 三浦敏德 ,  花仓满 ,  森川良树

IPC分类号： C08J7/12 ,  C01B13/10

摘要： 一种树脂膜(6)的改性装置(1)，该改性装置(1)用于使树脂膜(6)的表面成为亲水性的。改性装置(1)具有腔室(2)、不饱和烃供给装置(3)和臭氧产生装置(4)。在腔室(2)中，设置预先将树脂膜(6)卷绕到其上的供给辊(7)、卷取辊(8)和喷头(10)。将卷绕到供给辊(7)上的树脂膜(6)卷绕到卷取辊(8)上时，从喷头(10)向在供给辊(7)和卷取辊(8)之间移动的树脂膜(6)的表面供给高浓度臭氧气体和不饱和烃气体。

公开(公告)号：CN107614580A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201680028950.2

申请日：2016-05-17

申请人： 株式会社明电舍

发明人： 三浦敏德 ,  花仓满 ,  森川良树

IPC分类号： C08J7/12 ,  C01B13/10

CPC分类号： C08J7/12 ,  C01B13/10 ,  C08C19/04 ,  C08F8/06 ,  C08J2323/00

摘要： 一种树脂膜(6)的改性装置(1)，该改性装置(1)用于使树脂膜(6)的表面成为亲水性的。改性装置(1)具有腔室(2)、不饱和烃供给装置(3)和臭氧产生装置(4)。在腔室(2)中，设置预先将树脂膜(6)卷绕到其上的供给辊(7)、卷取辊(8)和喷头(10)。将卷绕到供给辊(7)上的树脂膜(6)卷绕到卷取辊(8)上时，从喷头(10)向在供给辊(7)和卷取辊(8)之间移动的树脂膜(6)的表面供给高浓度臭氧气体和不饱和烃气体。