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公开(公告)号：CN1946870B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200580013030.5
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/24 , H01J37/026 , H01J37/3053 , H01J2237/3132
摘要： 本发明以低成本且高维护性的构成提供一种中和器，即使电极热膨胀也不会变形及破损。该中和器具有丝极、使电流流过该丝极的一对电极、及在绝缘状态下支承一对电极的基座，其中，该中和器构成为具有如下的保持装置：将一对电极和基座在相对位置至少在一方向上可以变动的状态下保持。
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公开(公告)号：CN1946870A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580013030.5
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/24 , H01J37/026 , H01J37/3053 , H01J2237/3132
摘要： 本发明以低成本且高维护性的构成提供一种中和器，即使电极热膨胀也不会变形及破损。该中和器具有丝极、使电流流过该丝极的一对电极、及在绝缘状态下支承一对电极的基座，其中，该中和器构成为具有如下的保持装置：将一对电极和基座在相对位置至少在一方向上可以变动的状态下保持。
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公开(公告)号：CN1946873B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200580013193.3
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： C23C14/505
摘要： 提供一种在有限的空间内也能效率良好地进行转动机构的装配分解且维修性和作业性优良的真空装置。而且，由于防止基板拱顶的径向振动，防止由轴承产生的粉尘而引起污染，因而通过转动机构的薄型化使成膜精度提高。在由真空槽、固定在该真空槽内部的基座、安装在该基座上的转动机构以及搭载了成膜基板且通过转动机构而水平转动的基板拱顶组成的真空装置中，该转动机构形成可以沿着该真空槽底面方向从该基座进行拆装的结构。
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公开(公告)号：CN1946871A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580013068.2
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
CPC分类号： C23C14/22 , F25D23/061
摘要： 在真空蒸镀等成膜中使用的真空槽的致冷剂路径的构成中，通过减少冷却管的使用量缩短施工期间，通过缩短致冷剂路径抑制致冷剂流量的下降，其中，在包括被槽壁覆盖的槽、配置在槽内部的内部机构或配置在槽外部的外部机构、和用于冷却内部机构或外部机构的至少一个以上的致冷剂路径的装置中，其构成为，致冷剂路径的至少一部分形成槽壁的一部分。
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公开(公告)号：CN1946871B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200580013068.2
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
CPC分类号： C23C14/22 , F25D23/061
摘要： 在真空蒸镀等成膜中使用的真空槽的致冷剂路径的构成中，通过减少冷却管的使用量缩短施工期间，通过缩短致冷剂路径抑制致冷剂流量的下降，其中，在包括被槽壁覆盖的槽、配置在槽内部的内部机构或配置在槽外部的外部机构、和用于冷却内部机构或外部机构的至少一个以上的致冷剂路径的装置中，其构成为，致冷剂路径的至少一部分形成槽壁的一部分。
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公开(公告)号：CN1946869B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200580012669.1
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
CPC分类号： C23C14/505 , C23C14/32 , H01J37/023 , H01J37/24 , H01J37/3053 , H01J2237/024 , H01J2237/3137 , H01R39/381 , H01R39/64
摘要： 改进排列在真空室内的旋转电极和接触该旋转电极以便向其提供电功率的电源装置间的接触状态。真空设备具有真空室、排列在真空室内并与真空室电绝缘的旋转电极，以及接触旋转电极以便向其提供电功率的电源装置，其中，旋转电极具有环形形状以及相对于环形形状的中心轴水平旋转，以及电源装置由电极构件组成，以及电极构件和旋转电极在至少一个接触面彼此接触。
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公开(公告)号：CN1977066A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200580013199.0
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/505 , C23C14/044
摘要： 抑制因在基板拱顶内成膜过程中的热膨胀和转动而引起的离心力，使配置在基板拱顶上的基板上的膜厚分布精度下降。在包括真空槽和搭载了成膜基板并与真空槽底部相向设置的基板拱顶的真空装置中，形成由钛或钛合金构成的材料的基板拱顶。
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公开(公告)号：CN1946873A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580013193.3
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： C23C14/505
摘要： 提供一种在有限的空间内也能效率良好地进行转动机构的装配分解且维修性和作业性优良的真空装置。而且，由于防止基板拱顶的径向振动，防止由轴承产生的粉尘而引起污染，因而通过转动机构的薄型化使成膜精度提高。在由真空槽、固定在该真空槽内部的基座、安装在该基座上的转动机构以及搭载了成膜基板且通过转动机构而水平转动的基板拱顶组成的真空装置中，该转动机构形成可以沿着该真空槽底面方向从该基座进行拆装的结构。
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公开(公告)号：CN1946869A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580012669.1
申请日：2005-01-24
申请人： 株式会社昭和真空
CPC分类号： C23C14/505 , C23C14/32 , H01J37/023 , H01J37/24 , H01J37/3053 , H01J2237/024 , H01J2237/3137 , H01R39/381 , H01R39/64
摘要： 改进排列在真空室内的旋转电极和接触该旋转电极以便向其提供电功率的电源装置间的接触状态。真空设备具有真空室、排列在真空室内并与真空室电绝缘的旋转电极，以及接触旋转电极以便向其提供电功率的电源装置，其中，旋转电极具有环形形状以及相对于环形形状的中心轴水平旋转，以及电源装置由电极构件组成，以及电极构件和旋转电极在至少一个接触面彼此接触。
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