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公开(公告)号：CN109478530B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201780044701.7
申请日：2017-07-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，放置处理对象物；基座板，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，加热器板具有：第1、2支撑板；加热器元件，设置在第1支撑板与第2支撑板之间；第1树脂层，设置在第1支撑板与加热器元件之间；及第2树脂层，设置在第2支撑板与加热器元件之间，当在层叠方向上观察时，第1支撑板的第2支撑板侧的面具有：第1区域，重叠于加热器元件；及第2区域，并不重叠于加热器元件，第2区域比第1区域更向第2支撑板侧突出。
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公开(公告)号：CN110783162A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201910675335.6
申请日：2019-07-25
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够在提高等离子体密度的面内均匀性的同时也提高RF敏感性。具备：第1电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部，连接于高频电源；及第2电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部，连接于吸附用电源，第1电极层在Z轴方向上设置于第1主面与第2主面之间，第2电极层在Z轴方向上设置于第1电极层与第1主面之间，第1电极层具有第1主面侧的第1面及第1面相反侧的第2面，且从第2面侧被供电，其特征为，第1面与第1主面之间的沿向Z轴方向的距离呈一定，在第1电极层的端部处的第2面与第1面之间的沿向Z轴方向的距离，小于在第1电极层的中央部处的第2面与第1面之间的沿向Z轴方向的距离。
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公开(公告)号：CN108604570A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780009357.8
申请日：2017-03-13
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，放置处理对象物；基座板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，其特征为，加热器板具有：第1、第2支撑板，包含金属；第1、第2树脂层，设置在第1支撑板与第2支撑板之间；及第1、第2导电部，设置在第1树脂层与第2树脂层之间且在面内方向上离开，具有：加热器元件，因电流的流动而发热；及空间部，被在第1导电部的面内方向上的侧端部、第1树脂层、第2树脂层所划分，第1树脂层在第1导电部与第2导电部之间连接于第2树脂层。
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公开(公告)号：CN110783251B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN201910644993.9
申请日：2019-07-17
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够在提高RF敏感性的同时提高等离子体密度的面内均匀性。具体而言，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面及所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑陶瓷电介体基板；及至少一个第1电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部，连接于高频电源，其特征为，在从基座板朝向陶瓷电介体基板的Z轴方向上，第1电极层设置在第1主面与第2主面之间，第1电极层具有第1主面侧的第1面及第1面相反侧的第2面，第2面的表面粗糙度大于第1面的表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN111725120B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202010200242.0
申请日：2020-03-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有第1、第2主面；基座板；第1电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接；及第2电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接，其特征在于，第1电极层在Z轴方向上被设置在第1主面和第2主面之间，第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大，第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间，第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面，在从第2面侧供电的静电吸盘上，第1电极层包含陶瓷成分和金属成分，陶瓷成分的浓度及金属成分的浓度的至少任一在Z轴方向上不均匀。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110783251A
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：CN201910644993.9
申请日：2019-07-17
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够在提高RF敏感性的同时提高等离子体密度的面内均匀性。具体而言，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面及所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑陶瓷电介体基板；及至少一个第1电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部，连接于高频电源，其特征为，在从基座板朝向陶瓷电介体基板的Z轴方向上，第1电极层设置在第1主面与第2主面之间，第1电极层具有第1主面侧的第1面及第1面相反侧的第2面，第2面的表面粗糙度大于第1面的表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN108780774A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780017182.5
申请日：2017-05-12
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面与所述第1主面的相反侧的第2主面；及基座板，设置于所述第2主面侧，支撑所述陶瓷电介体基板，其特征为，所述基座板具有调整所述处理对象物的温度的介质通过的第1连通路，所述第1连通路具有上面、侧面及下面，相对于所述第1连通路的高度，在所述上面上的最大高度Sz的偏差之比为1％以下。
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公开(公告)号：CN108695222A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810270110.8
申请日：2018-03-29
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6833 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H01L21/68785 , H05B3/283
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够提高处理对象物的面内温度分布的均匀性。具体而言，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面；电极层，设置于陶瓷电介体基板；基座板，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在基座板与第1主面之间，其特征为，加热器板具有：第1加热器元件，因电流的流动而发热；及第2加热器元件，因电流的流动而发热，当在垂直于第1主面的方向上观察时，第1加热器元件比第2加热器元件折曲更多，第1加热器元件具有位于第2加热器元件的间隙的部分。
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公开(公告)号：CN110783162B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN201910675335.6
申请日：2019-07-25
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够在提高等离子体密度的面内均匀性的同时也提高RF敏感性。具备：第1电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部，连接于高频电源；及第2电极层，设置在陶瓷电介体基板的内部，连接于吸附用电源，第1电极层在Z轴方向上设置于第1主面与第2主面之间，第2电极层在Z轴方向上设置于第1电极层与第1主面之间，第1电极层具有第1主面侧的第1面及第1面相反侧的第2面，且从第2面侧被供电，其特征为，第1面与第1主面之间的沿向Z轴方向的距离呈一定，在第1电极层的端部处的第2面与第1面之间的沿向Z轴方向的距离，小于在第1电极层的中央部处的第2面与第1面之间的沿向Z轴方向的距离。
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公开(公告)号：CN107112274B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201680005123.1
申请日：2016-01-15
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面；基座板，设置在远离陶瓷电介体基板的位置，支撑陶瓷电介体基板；及加热器板，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间，其特征为，加热器板具有：第1支撑板，包含金属；第2支撑板，包含金属；加热器元件，设置在第1支撑板与第2支撑板之间，通过流电而发热；第1树脂层，设置在第1支撑板与加热器元件之间；及第2树脂层，设置在第2支撑板与加热器元件之间。
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