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公开(公告)号：CN113767186B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202180000539.5
申请日：2021-03-01
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以较少的力或较少的擦拭次数去除所堆积的水垢等污垢的卫生设备部件。该部件为包含基材和位于该基材上的表面层而构成的部件，其中，所述部件的表面具有凹凸结构，所述凹凸结构的特征在于：根据JIS B 0681‑2(2018)规定的均方根高度(Sq)为0.03μm以上且1μm以下、轮廓曲面的偏度(Ssk)为‑1以上且5以下、并且自相关长度(Sal)为10μm以上且65μm以下，所述表面层呈拒水性，并且，在通过XPS深度剖析得到的曲线中，将某测定点的碳原子浓度与其前1点的测定点的碳原子浓度之差的绝对值为1.0at％以下的点作为表面层的终点，从溅射开始到所述终点的溅射时间为5分钟以内。
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公开(公告)号：CN111247297A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201980003245.0
申请日：2019-09-27
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明在于，对于水栓零件在不引起局部腐蚀的同时赋予防污功能。本发明为一种水栓零件，具备：金属基材及在所述金属基材表面上局部形成的镀层，其特征在于，所述金属基材含有选自铜、锌及锡中的至少1种的金属元素，所述镀层含有选自铬及镍中的至少1种的金属元素，在所述镀层上，介由存在于所述镀层表面的钝化层进一步设置有机层，所述有机层通过构成所述钝化层的金属元素(M)介由氧原子(O)与选自膦酸基、磷酸基及次膦酸基中的至少1种的基(X)的磷原子(P)键合(M-O-P键)，而与所述钝化层键合，且基X与基R(R为烃基或烃基内的1或2处上具有碳以外的原子的基。)键合，所述金属基材上未形成镀层的部分的表面的磷原子浓度比设置于镀层之上的有机层的表面的磷原子浓度低。
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公开(公告)号：CN111247297B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN201980003245.0
申请日：2019-09-27
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明在于，对于水栓零件在不引起局部腐蚀的同时赋予防污功能。本发明为一种水栓零件，具备：金属基材及在所述金属基材表面上局部形成的镀层，其特征在于，所述金属基材含有选自铜、锌及锡中的至少1种的金属元素，所述镀层含有选自铬及镍中的至少1种的金属元素，在所述镀层上，介由存在于所述镀层表面的钝化层进一步设置有机层，所述有机层通过构成所述钝化层的金属元素(M)介由氧原子(O)与选自膦酸基、磷酸基及次膦酸基中的至少1种的基(X)的磷原子(P)键合(M‑O‑P键)，而与所述钝化层键合，且基X与基R(R为烃基或烃基内的1或2处上具有碳以外的原子的基。)键合，所述金属基材上未形成镀层的部分的表面的磷原子浓度比设置于镀层之上的有机层的表面的磷原子浓度低。
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公开(公告)号：CN113767186A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202180000539.5
申请日：2021-03-01
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以较少的力或较少的擦拭次数去除所堆积的水垢等污垢的卫生设备部件。该部件为包含基材和位于该基材上的表面层而构成的部件，其中，所述部件的表面具有凹凸结构，所述凹凸结构的特征在于：根据JIS B 0681‑2(2018)规定的均方根高度(Sq)为0.03μm以上且1μm以下、轮廓曲面的偏度(Ssk)为‑1以上且5以下、并且自相关长度(Sal)为10μm以上且65μm以下，所述表面层呈拒水性，并且，在通过XPS深度剖析得到的曲线中，将某测定点的碳原子浓度与其前1点的测定点的碳原子浓度之差的绝对值为1.0at％以下的点作为表面层的终点，从溅射开始到所述终点的溅射时间为5分钟以内。
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公开(公告)号：CN111263832B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN201980003252.0
申请日：2019-09-27
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明提供一种污垢易去除性及其持久性优异的卫生设备构件。本发明为一种卫生设备构件，包含：至少其表面含有金属元素的基材；形成于所述基材的所述表面上的金属氧化物层；及设置于所述金属氧化物层上的有机层，其特征在于，所述金属元素为选自Cr、Zr及Ti中的至少1种，所述金属氧化物层至少含有所述金属元素与氧元素，所述有机层通过所述金属元素(M)介由氧原子(O)与选自膦酸基、磷酸基及次膦酸基中的至少1种的基(X)的磷原子(P)键合(M‑O‑P键)，而与所述金属氧化物层键合，且基X与基R(R为烃基或在烃基内的1或2处上具有碳以外的原子的基。)键合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105908125A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610091871.8
申请日：2016-02-18
Applicant: TOTO株式会社
CPC classification number: B01J20/20 , B05D1/62 , C23C16/0272 , C23C16/27 , C23C14/06 , C23C14/22 , C23C16/30 , C23C16/50
Abstract: 本发明的目的在于得到一种防污性及防污耐久性高的、用于室内的用水场所环境的用水场所用构件。具体而言，提供一种用水场所用构件，其为用于室内用水场所环境的用水场所用构件，其特征在于，具备基材、及形成于所述基材的表面且主要包含碳原子的无定形碳层，所述无定形碳层还包含氢原子，且所述无定形碳层构成为，包含在规定量以上更多的所述氢原子且其密度变得比规定值更低，以便可长期抑制水垢的粘着。由此，可以得到即使在紫外线照射下防污性及防污耐久性也较高的用水场所用构件。
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公开(公告)号：CN108386567B
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN201810057924.3
申请日：2018-01-22
Applicant: TOTO株式会社
IPC: F16K3/314
Abstract: 本发明的课题在于提供在介由水而可滑动的水栓阀门中具有优异的滑动性的陶瓷制阀门。具体而言，在于提供如下水栓阀门：其包括具有第1滑动面且由氧化铝质烧结体构成的第1阀体及具有第2滑动面且由氧化铝质烧结体构成的第2阀体，所述第1滑动面与所述第2滑动面的至少一部分彼此介由水而连接，其特征在于，在所述第2滑动面的至少一部分上设置第1无定形碳层，所述第1无定形碳层的硬度在构成所述第1阀体的氧化铝质烧结体的硬度以下，所述第1无定形碳层通过拉曼分光法测定的D峰与G峰之比(ID/IG)大于0.5、小于1.9。
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公开(公告)号：CN113784802A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202180000529.1
申请日：2021-03-01
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明提供一种在维持着色层的外观(色调)的同时还可获得拒水层所产生的拒水功能的部件。该部件具备基材、着色层、中间层以及表面层，其中，着色层在通过XPS深度剖析得到的曲线中包含大于35at％且99at％以下的C、0at％以上且小于40at％的Cr、0at％以上且小于15at％的N、以及大于0at％且小于15at％的O，中间层包含选自Cr、Zr以及Si的至少1种金属原子和氧原子，进一步检出氧化状态的所述金属元素，从检出所述金属元素的时间点到所述氧元素的检出量多于所述着色层中所含的氧元素(O)的检出量的时间点的溅射时间为0.5分钟以上且9分钟以内，表面层呈拒水性，包含疏水基，并且，在通过XPS深度剖析得到的曲线中，从溅射开始到开始检出所述中间层中所含的金属原子的时间点的溅射时间为大于0.5分钟且5分钟以下。
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公开(公告)号：CN111263832A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201980003252.0
申请日：2019-09-27
Applicant: TOTO株式会社
Abstract: 本发明提供一种污垢易去除性及其持久性优异的卫生设备构件。本发明为一种卫生设备构件，包含：至少其表面含有金属元素的基材；形成于所述基材的所述表面上的金属氧化物层；及设置于所述金属氧化物层上的有机层，其特征在于，所述金属元素为选自Cr、Zr及Ti中的至少1种，所述金属氧化物层至少含有所述金属元素与氧元素，所述有机层通过所述金属元素(M)介由氧原子(O)与选自膦酸基、磷酸基及次膦酸基中的至少1种的基(X)的磷原子(P)键合(M-O-P键)，而与所述金属氧化物层键合，且基X与基R(R为烃基或在烃基内的1或2处上具有碳以外的原子的基。)键合。
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公开(公告)号：CN113784802B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202180000529.1
申请日：2021-03-01
Applicant: TOTO株式会社
IPC: B32B7/02
Abstract: 本发明提供一种在维持着色层的外观(色调)的同时还可获得拒水层所产生的拒水功能的部件。该部件具备基材、着色层、中间层以及表面层，其中，着色层在通过XPS深度剖析得到的曲线中包含大于35at％且99at％以下的C、0at％以上且小于40at％的Cr、0at％以上且小于15at％的N、以及大于0at％且小于15at％的O，中间层包含选自Cr、Zr以及Si的至少1种金属原子和氧原子，进一步检出氧化状态的所述金属元素，从检出所述金属元素的时间点到所述氧元素的检出量多于所述着色层中所含的氧元素(O)的检出量的时间点的溅射时间为0.5分钟以上且9分钟以内，表面层呈拒水性，包含疏水基，并且，在通过XPS深度剖析得到的曲线中，从溅射开始到开始检出所述中间层中所含的金属原子的时间点的溅射时间为大于0.5分钟且5分钟以下。
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