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公开(公告)号：CN102165282A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200980138478.8
申请日：2009-07-02
申请人： 三菱重工业株式会社
CPC分类号： G01N21/8422 , G01B11/06 , G01B11/30 , G01N2021/8928
摘要： 本发明目的在于能够降低薄膜的基板面内的膜厚变动的影响，实现计测精度的提高。包括：对在璃基板上形成有薄膜的被检查基板(W)从该玻璃基板侧照射单波长的光的光源；以受光轴相对于从光源射出的照明光的光轴以预定的倾斜角度交叉的方式配置，对透过被检查基板(W)的扩散透过光进行受光的受光元件；和基于由受光元件接受的光的强度求出薄膜的雾度率的计算机(7)。计算机(7)具有将雾度率与扩散透过光的光强度建立关联而成的雾度率特性，利用该雾度率特性和由上述受光元件接受的光强度求出雾度率。
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公开(公告)号：CN102165282B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200980138478.8
申请日：2009-07-02
申请人： 三菱重工业株式会社
CPC分类号： G01N21/8422 , G01B11/06 , G01B11/30 , G01N2021/8928
摘要： 本发明目的在于能够降低薄膜的基板面内的膜厚变动的影响，实现计测精度的提高。包括：对在璃基板上形成有薄膜的被检查基板(W)从该玻璃基板侧照射单波长的光的光源；以受光轴相对于从光源射出的照明光的光轴以预定的倾斜角度交叉的方式配置，对透过被检查基板(W)的扩散透过光进行受光的受光元件；和基于由受光元件接受的光的强度求出薄膜的雾度率的计算机(7)。计算机(7)具有将雾度率与扩散透过光的光强度建立关联而成的雾度率特性，利用该雾度率特性和由上述受光元件接受的光强度求出雾度率。
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公开(公告)号：CN102422148A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201080020227.2
申请日：2010-03-02
申请人： 霍尼韦尔国际公司
CPC分类号： G01N21/47 , G01N21/59 , G01N21/896 , G01N21/958 , G01N2021/8928
摘要： 一种方法包括采用第一光(108,208,308,504,604,802)照射(902)材料(102,202,302)并且捕获(904)透射通过所述材料的第二光(114-116,214-216,314-316,804,808,814,816,822)的图像(400,700)。所述方法还包括分析(908)所述图像的多个区(402-406,702)并且基于所述分析确定(910)与所述材料相关联的一个或多个雾度测量结果。所述方法进一步包括存储和/或输出(910)所述一个或多个雾度测量结果。分析所述图像的多个区可以包括计算每个区中的像素值的总和以为该区产生总的像素值。所述图像的多个区可以包括：(i)形成第一圆盘的第一区；(ii)形成环绕所述第一区的第一环形区或大于并且包括所述第一圆盘的第二圆盘的第二区；以及(iii)形成环绕所述第二区的第二环形区或大于并且包括所述第一和第二圆盘的第三圆盘的第三区。
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公开(公告)号：CN102422148B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201080020227.2
申请日：2010-03-02
申请人： 霍尼韦尔国际公司
CPC分类号： G01N21/47 , G01N21/59 , G01N21/896 , G01N21/958 , G01N2021/8928
摘要： 一种方法包括采用第一光(108,208,308,504,604,802)照射(902)材料(102,202,302)并且捕获(904)透射通过所述材料的第二光(114-116,214-216,314-316,804,808,814,816,822)的图像(400,700)。所述方法还包括分析(908)所述图像的多个区(402-406,702)并且基于所述分析确定(910)与所述材料相关联的一个或多个雾度测量结果。所述方法进一步包括存储和/或输出(910)所述一个或多个雾度测量结果。分析所述图像的多个区可以包括计算每个区中的像素值的总和以为该区产生总的像素值。所述图像的多个区可以包括：(i)形成第一圆盘的第一区；(ii)形成环绕所述第一区的第一环形区或大于并且包括所述第一圆盘的第二圆盘的第二区；以及(iii)形成环绕所述第二区的第二环形区或大于并且包括所述第一和第二圆盘的第三圆盘的第三区。
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