一种基于光场调控的双路并行超分辨激光直写装置

    公开(公告)号:CN113189846B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202110388124.1

    申请日:2021-04-12

    Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置,属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块;抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块;直写光在直写路波前调控模块中被调制,抑制光在抑制路波前调控模块中被调制,两路光合束后,形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性,在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑,同时实现每个光斑能量的独立调控,将激光直写打印系统的速度提升了一倍。

    基于TFT背板的轮廓增强传感器、阵列版图及设计方法

    公开(公告)号:CN116387336A

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202310641870.6

    申请日:2023-06-01

    Abstract: 本发明公开了一种基于TFT背板的轮廓增强传感器、阵列版图及设计方法,本发明以一种包含光敏电阻、电阻、TFT晶体管等器件结合的电路作为核心像素电路,其中传感器的光敏器件与TFT背板使用异构集成工艺进行结合。本发明通过将光敏器件集成在TFT背板上,同时以TFT器件技术为核心进行像素区周边的驱动电路或者读出电路的设计,也兼容集成驱动芯片和读出电路芯片绑定于TFT背板上,且得益于TFT背板可大面积制备的优势,可实现一种集成度高、大规模和高分辨率的阵列轮廓增强传感器。

    一种三维结构光照明超分辨显微成像的高保真重构的方法和装置

    公开(公告)号:CN116183568A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202310020503.4

    申请日:2023-01-06

    Abstract: 一种三维结构光照明超分辨显微成像的高保真重构的方法,包括:将一束平行光分为强度相等、偏振方向一致的三束平行光束,在样品上进行干涉形成三维非均匀照明光场,样品受到非均匀照明光场调制后频谱产生频移;由物镜接收样品发出的荧光信号后,经过场镜汇聚到成像像面,用探测器接收该荧光信号,得到一张混有样品高低频信息的低分辨率图像;多次改变照明光场的空间位移和方向,再次拍摄受光场调制的荧光信号,得到一系列混有样品高低频信息的低分辨率图像,作为原始图像。再将原始图像进行后续图像处理,首先进行照明光场的初始相位和空间频率的参数估计,然后再对样品各个频带进行分离,最后将各频谱进行组合重构出样品的高保真超分辨图像。

    一种基于光谱共焦的原位自动对焦装置及方法

    公开(公告)号:CN115993695A

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202310169949.3

    申请日:2023-02-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于光谱共焦的原位自动对焦装置及方法。通过采用光谱共焦传感器同轴安装的形式实现了绝对离焦位移量的测量,提高了自动对焦系统的闭环控制响应;通过运动台光栅尺位移量信号匹配离焦量测量的光谱共焦探头和现有光路系统信号转换模块的触发工作时间,可以避免对焦系统对现有光路系统的光谱干扰;通过设置离焦测量点相对于成像或加工位置形成一定的超前偏移量,可以确保自动对焦装置始终对当前工作位置实现动态对焦,避免产生对焦位置的滞后。

    一种深度学习的亚五十纳米结构光照明超分辨成像方法

    公开(公告)号:CN115619646B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202211577360.9

    申请日:2022-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种亚五十纳米结构光照明超分辨显微成像方法,涉及光学超分辨显微成像领域,先通过图像退化获得高分辨STORM图像和低分辨SIM图像并进行配对、再对配对的数据进行训练数据集制作,然后通过训练的去噪网络进行去噪优化,最后通过SIM超分辨重构,输出高分辨率图像,本发明将传统SIM技术的分辨率提升至50 nm,同时不损失其快速、低光毒性、长时程成像能力;所需的训练集通过高分辨图像退化得到,无需实验获取,无需复杂的配准过程,大大降低了训练集的制作难度;本方法不增加任何系统复杂度,可基于任何已有SIM系统实现,应用范围广。

    偏振转换超表面结构光超分辨显微芯片及成像系统、方法

    公开(公告)号:CN115629436A

    公开(公告)日:2023-01-20

    申请号:CN202211161213.3

    申请日:2022-09-23

    Abstract: 本发明公开了一种偏振转换超表面结构光超分辨显微芯片及成像系统、方法,该芯片基于两面平行的光透明基底,该基底两面抛光,其中一面作为光场调制面,在波导表面制备超表面光场调制结构,利用超表面对电磁场的自由灵活控制特性,可以实现对耦合光场的偏振控制和耦合效率的提高。由于不需要传统的偏振旋转器件,相比以往提出的结构光超分辨显微芯片,基于该超表面的结构光超分辨显微芯片可以实现更高的集成度、更快的成像速度以及更高的能量利用率。

    一种深度学习的亚五十纳米结构光照明超分辨成像方法

    公开(公告)号:CN115619646A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211577360.9

    申请日:2022-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种亚五十纳米结构光照明超分辨显微成像方法,涉及光学超分辨显微成像领域,先通过图像退化获得高分辨STORM图像和低分辨SIM图像并进行配对、再对配对的数据进行训练数据集制作,然后通过训练的去噪网络进行去噪优化,最后通过SIM超分辨重构,输出高分辨率图像,本发明将传统SIM技术的分辨率提升至50 nm,同时不损失其快速、低光毒性、长时程成像能力;所需的训练集通过高分辨图像退化得到,无需实验获取,无需复杂的配准过程,大大降低了训练集的制作难度;本方法不增加任何系统复杂度,可基于任何已有SIM系统实现,应用范围广。

    一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法

    公开(公告)号:CN114895535B

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202210817874.0

    申请日:2022-07-13

    Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法,对于含有特殊光引发剂的光刻胶,使用两束不同波长的光源照射光刻胶,第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶,利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化;第二束激光为聚焦空心斑,且与第一束激光的三维中心对准,使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化,通过控制两束光的相对能量,从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写,刻写最小精度可达亚50nm。

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