凹凸图案形成方法和利用该方法的磁记录介质的制造方法

    公开(公告)号:CN101970209A

    公开(公告)日:2011-02-09

    申请号:CN200980103147.0

    申请日:2009-01-28

    CPC classification number: G11B5/855

    Abstract: 本发明的目的在于提供使用氧蚀刻耐性优异且适用期长的抗蚀剂形成材料的、可以在常温下矩形性良好地进行压印(压纹)的凹凸图案形成方法。本发明的凹凸图案形成方法的特征在于,包括下述工序(1)、工序(2)和工序(3),工序(1):将包含下述组成式(A)所表示的倍半硅氧烷化合物的溶液涂布在被加工材料表面上以形成薄膜,工序(2):将具有凹凸图案的母模按压在该薄膜上,工序(3):将所述母模从所述薄膜上剥离。R1R2Si2O3组成式(A)(在上述组成式(A)中,R1和R2各自独立地表示特定基团。)。

    制备高纯度N-乙烯基酰胺的方法

    公开(公告)号:CN101238093A

    公开(公告)日:2008-08-06

    申请号:CN200680028864.8

    申请日:2006-08-04

    CPC classification number: C07C231/24 C07C233/05 C08F226/02

    Abstract: 本发明公开了一种制备高纯度N-乙烯基酰胺的方法,其包括:(A)将粗N-乙烯基酰胺溶解于具有1-3个碳原子的醇中的步骤,该粗N-乙烯基酰胺含有50-97质量%的N-乙烯基酰胺;(B)向步骤(A)中获得的组合物中加入具有5-10个碳原子的脂族烃以析出该N-乙烯基酰胺晶体的步骤;和(C)分离步骤(B)中析出的N-乙烯基酰胺晶体的步骤。

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