公开(公告)号：CN201910395U

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN201020668539.1

申请日：2010-12-09

申请人： 北大方正集团有限公司

发明人： 苏新虹 ,  朱兴华

IPC分类号： H01J37/32 ,  H01J37/08 ,  H01J37/143

摘要： 本实用新型涉及离子束蚀刻领域，特别涉及一种阳离子源装置，能够减少作为阴极的磁极和阳极间短路的风险，并且能够延长磁极的使用寿命。本实用新型的阳离子源装置，包括：腔体、内磁极、外磁极、永磁体以及阳极，其中，所述内磁极内表面包括：第一接触区域，其至少部分地与永磁体的上表面接触；和第一非接触区域，其至少部分地与永磁体的上表面不接触；其中，所述第一非接触区域的至少一部分相对于所述第一接触区域而凹陷或向外倾斜。

公开(公告)号：CN202246951U

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201120365644.2

申请日：2011-09-28

申请人： 北大方正集团有限公司 ,  珠海方正印刷电路板发展有限公司

发明人： 黄云钟 ,  苏新虹 ,  何为 ,  金轶

IPC分类号： C25D17/00 ,  H05K3/00

摘要： 本实用新型提供了一种用于PCB垂直式镀线的残液收集装置，包括：传送机构，安装在PCB在制板在PCB垂直式镀线的各槽的行进路径上，位于PCB垂直式镀线的飞巴的下方；残液收集盘，设置在传送机构上。本实用新型提供了一种PCB垂直式镀线，包括上述实施例的残液收集装置。本实用新型达到了减少生产过程中各槽药水的交叉污染的效果。

公开(公告)号：CN201991988U

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN201020668565.4

申请日：2010-12-09

申请人： 北大方正集团有限公司

发明人： 苏新虹 ,  朱兴华

IPC分类号： F16F7/00 ,  F16F3/00 ,  F16F3/08

摘要： 本实用新型公开了一种缓冲器，包括：套筒，顶面设置有顶面开口；弹簧，位于所述套筒内部并连接到所述套筒的底面；缓冲垫，位于所述套筒外部；其中，所述弹簧与所述缓冲垫经由所述套筒的顶面开口相连。通过采用本实用新型实施例提供的缓冲器，可以利用弹簧实现缓冲，操作简便。

公开(公告)号：CN201975363U

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN201020668536.8

申请日：2010-12-09

申请人： 北大方正集团有限公司

发明人： 苏新虹 ,  朱兴华

IPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/32

摘要： 本实用新型涉及离子束蚀刻技术领域，公开了一种阳离子源装置。本实用新型的阳离子源装置，包括多个永磁体以及至少两个布气通道，所述多个永磁体沿所述布气通道分布，且至少一对相邻的布气通道之间连通。采用本实用新型的离子源装置，将现有阳离子源腔体内的上、下布气通道连通，相对现有的阳离子源装置，使得离子源腔体内的气体分布均匀，提高离子源的蚀刻均匀性。

公开(公告)号：CN201931454U

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN201020668597.4

申请日：2010-12-09

申请人： 北大方正集团有限公司

发明人： 朱兴华 ,  苏新虹

IPC分类号： B25H1/08 ,  B25H1/00

摘要： 本实用新型提供一种真空吸附台面及具有该真空吸附台面的真空吸附台，属于真空吸附技术领域，其可解决现有的真空吸附台面易造成工件表面损伤的问题。本实用新型的真空吸附台面包括：用于设在真空源上的支撑板，所述支撑板上具有支撑板吸附孔；设在所述支撑板上的承载板，所述承载板上与所述支撑板吸附孔相对应的位置处具有承载板吸附孔，且所述承载板中，至少用于承载工件的部分的硬度低于所述支撑板的硬度。本实用新型的真空吸附台包括用于提供真空环境的真空源，以及设在所述真空源上的上述真空吸附台面。本实用新型可用于在曝光工艺中支撑线路板等。

公开(公告)号：CN201744367U

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN201020512580.X

申请日：2010-08-31

申请人： 北大方正集团有限公司

发明人： 苏新虹 ,  朱兴华

IPC分类号： B01L9/00

摘要： 本实用新型公开了一种锥形瓶滴水架，涉及实验室的配件，解决了现有滴水架容易污染锥形瓶的问题。本实用新型实施例锥形瓶滴水架包括支撑脚、以及架设在所述支撑脚上的第一承载板，所述第一承载板上开设有至少一个与锥形瓶的中部尺寸相匹配的开口。本实用新型实施例锥形瓶滴水架主要用于实验室。