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公开(公告)号:CN105676539A
公开(公告)日:2016-06-15
申请号:CN201610179007.3
申请日:2016-03-25
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
发明人: 井杨坤
IPC分类号: G02F1/1337
CPC分类号: G02F1/133784
摘要: 本发明公开了一种摩擦布处理设备,属于液晶取向技术领域。所述设备包括第一辊子、第二辊子、覆盖在所述第一辊子表面的摩擦布、覆盖在所述第二辊子表面的毛羽刷,所述第一辊子和所述第二辊子平行设置,所述毛羽刷与所述摩擦布的毛羽接触。通过设置与毛羽相接触的毛羽刷,且毛羽刷和摩擦布均设置在辊子上,所以转动辊子,即可实现对摩擦布的毛羽进行梳理,解决了摩擦布表面毛羽方向不统一造成的液晶取向膜品质不良问题。
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公开(公告)号:CN105572925A
公开(公告)日:2016-05-11
申请号:CN201610005899.5
申请日:2016-01-04
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
发明人: 井杨坤
IPC分类号: G02F1/13
CPC分类号: G02F1/1303
摘要: 本发明涉及液晶显示器设计制造技术领域,尤其涉及一种基板承载装置。本发明提供的基板承载装置,包括基台及设于基台上的压合吸附机构和粘性吸附机构,粘性吸附机构由粘性材料制成,压合吸附机构用于使基板压紧粘性吸附机构。在使用机械手将基板放置基台上时,通过压合吸附机构吸附基板,并将基板压紧在粘性吸附机构上,由粘性材料制成的粘性吸附机构通过分子间作用力对基板进行吸附,将基板固定在基台上,解决了使用夹持器进行固定带来的基板变形的、基板上镀膜的均匀性较差的问题;与传统的使用三角夹持器的固定方式相比,对于基板的固定更加稳定牢固,基板的形变量更低,镀膜的均一度得到很大的提高,同时也解决了基板变形脱落的缺陷。
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公开(公告)号:CN103277774B
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201310227214.8
申请日:2013-06-07
申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
发明人: 井杨坤
IPC分类号: F21V29/50 , G02F1/1339
CPC分类号: B29D11/00442 , F21V29/50
摘要: 本发明提供一种用于紫外线固化机的冷却系统及其紫外线固化机和冷却方法。所述冷却系统包括冷却水传输装置及出水阀门,还包括:光强检测装置,用于检测所述固化灯管照射时的光强;流量控制装置,用于当所述固化灯管的光强升高,且升高幅度达到第一阈值时,使所述出水阀门的出水流量增大;当所述固化灯管的光强降低,且降低幅度达到第二阈值时,使所述出水阀门的出水流量减小。本发明通过在紫外线固化机的机台照射部上设置光强检测装置,来监测紫外线固化机的固化灯管的光强变化,利用光强在固化灯管的温度变化之前进行流量的调节,以保持固化灯管温度的稳定性,减少温度变化对固化灯管的冲击,达到延长固化灯管的使用寿命的目的。
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公开(公告)号:CN103713472B
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201310699064.0
申请日:2013-12-18
申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
发明人: 井杨坤
摘要: 本发明公开了一种自动安装掩模板系统,用于实现一种高效安装掩模板系统。所述系统包括:控制装置、传送装置、检测装置和紫外固化装置;控制装置用于向传送装置发送第一控制信号,还用于在接收到检测装置发送的表示掩模板合格的检测结果时,向传送装置发送第二控制信号,以及用于在接收到检测装置发送的表示掩模板不合格的检测结果时,向传送装置发送第三控制信号;传送装置用于根据第一控制信号将掩模板放置在检测装置上;检测装置用于对位于其上的掩模板进行质量检测以确定其是否合格,并将检测结果发送给控制装置;紫外固化装置用于根据第二控制信号将掩模板放置在紫外固化装置上。
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公开(公告)号:CN105425431A
公开(公告)日:2016-03-23
申请号:CN201510734300.7
申请日:2015-11-02
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号: G02F1/13 , G02F1/1337
CPC分类号: G02F1/1337 , B05C1/00 , B29D11/0073 , B41F7/36 , G02F1/1303
摘要: 本发明公开了一种转印版润湿系统及取向液转印系统,涉及显示技术领域,用于制作厚度均匀的取向层,提高显示装置的显示效果。该转印版润湿系统包括前润版装置,所述前润版装置包括取向剂储液箱、取向剂溶剂储液箱、转印版传送单元和设置于所述转印版传送单元上方的喷嘴,所述取向剂储液箱的出液口和所述取向剂溶剂储液箱的出液口均通过出液管道连接至串液管道的一端,所述串液管道的另一端连接所述喷嘴。本发明中的转印版润湿系统用于对转印版进行润版。
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公开(公告)号:CN104984873A
公开(公告)日:2015-10-21
申请号:CN201510324314.1
申请日:2015-06-12
申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
发明人: 井杨坤
CPC分类号: B05D1/28 , B05C1/00 , B05C1/025 , B05C1/08 , B05C1/0895 , B05D1/00 , H01L21/6715
摘要: 本发明提供一种涂布方法,用于在基板上涂布胶液以形成膜层,所述涂布方法包括以下步骤:S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值;S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布,以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。相应地,本发明还提供一种涂布装置。本发明能够快速地确定涂布参数的值,从而提高涂布效率。
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公开(公告)号:CN104909165A
公开(公告)日:2015-09-16
申请号:CN201510346518.5
申请日:2015-06-19
申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: B65G49/06 , B65G47/72 , H01L21/677
CPC分类号: B25J9/1687 , G05B2219/45045 , H01L21/6732 , H01L21/6734
摘要: 本发明提供了一种立柱位置调节装置、卡匣变换装置和基板搬送系统。所述立柱位置调节装置包括:立柱取放单元,用于将立柱从当前定位孔取出以及安装所述立柱到目标定位孔;运动结构,能够控制所述立柱取放单元移动;以及,运动控制单元,用于控制所述运动结构使得所述立柱取放单元移动至待移动的立柱当前所在的源位置,并在所述立柱取放单元将所述立柱从当前定位孔中取出之后,控制所述运动结构使得所述立柱取放单元移动至目标位置。本发明可以自动调整卡匣的定位条上的立柱的位置并自动进行卡匣变换,既可以节省人力,又可以减少人为失误造成卡匣尺寸更改错误而引起的产品和产能的损失。
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公开(公告)号:CN103697976B
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201310732976.3
申请日:2013-12-26
申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要: 本发明公开了一种微量天平测重系统,包括天平本体、震动感知测量装置、抗震反馈控制平台、电磁测量单元;震动感知测量装置,用于输出随天平本体垂直震动而变化的电信号;抗震反馈控制平台,放置在天平本体之下,用于接收震动感知测量装置输出的电信号,进行相应制动来减弱天平本体的垂直震动;电磁测量单元,设置在天平本体中,用于接收震动感知测量装置输出的电信号,当所述电信号小于设定阈值时进行测重,并根据所述电信号对测重结果进行补偿。本发明利用抗震反馈控制平台对震动进行制动,制动后的微小震动由天平电磁测量单元进行数据补偿,从而避免了震动对测重带来的影响,实现了更精确的测量,也防止了严重震动对天平造成损坏。
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公开(公告)号:CN104820316A
公开(公告)日:2015-08-05
申请号:CN201510242266.1
申请日:2015-05-13
申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1337
CPC分类号: B05D3/065 , B05D1/02 , B05D3/06 , B05D3/067 , G02F1/1303 , G02F1/133788
摘要: 本发明提供一种光配向装置、光配向方法和配向膜制备系统。该光配向装置包括:光配向单元、温度采集单元和控制单元,光配向单元用于对待配向膜层进行预热、固化和光配向;温度采集单元用于对待配向膜层在预热、固化和光配向过程中的温度进行实时采集,并将采集的温度反馈给控制单元;控制单元用于判断反馈的温度是否在预设的温度范围内,并根据判断结果调整光配向单元的位置、功率和/或速度,以使待配向膜层在预热、固化和光配向过程中的温度分别处于各自的预设温度范围内。该光配向装置能够对待配向膜层在预热、固化和光配向过程中的温度进行实时监测、控制和调整,从而避免了温度过高或过低而导致的配向不良,进而保证了配向膜的配向质量。
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公开(公告)号:CN103454799B
公开(公告)日:2015-07-29
申请号:CN201310390793.8
申请日:2013-08-30
申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
发明人: 井杨坤
IPC分类号: G02F1/1333 , B25J19/00
CPC分类号: G02F1/1303 , B30B15/06 , B32B37/10 , B32B37/1018 , B32B38/10 , B32B38/1858 , B32B2457/202 , G02F1/133514 , G02F1/1339 , H01L21/67092 , H01L21/67288 , H01L21/6838 , H01L21/6875 , H01L41/0825
摘要: 本发明提供了一种真空对盒装置及对盒方法和生产设备,用以提高对盒的精确度和对盒质量。所述装置包括动态感知调节结构,其每一个子结构与上基板的一个子区域位置相对应,每一子结构包括平整度调节层、压电感应层和表面吸附层;对盒时,压电感应层根据对应的上基板子区域施加的压力产生压力感应电流并传送给控制电路,控制电路对平整度调节层施加相应的电场,使得平整度调节层产生与对应的上基板子区域相吻合的形变;压电感应层根据对应的上基板子区域所受到的吸力产生吸力感应电流并传送给所述控制电路,控制电路根据所述吸力感应电流控制上机台的下降速度和施加到表面吸附层的电压,使得每一子结构的表面吸附层发生与电压值大小相应的形变。
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