公开(公告)号：CN104871658B

公开(公告)日：2018-04-24

申请号：CN201280077625.7

申请日：2012-12-12

申请人： 富士机械制造株式会社

发明人： 岩濑友则

IPC分类号： H05K13/02 ,  H01L21/673

CPC分类号： H01L21/67294 ,  H01L21/67144 ,  H01L21/6732

摘要： 裸片供给装置(12)的料仓升降部(34)构成为能够替换搭载规格不同的料仓架。在各料仓架上设置记载有各料仓架的识别信息(以下称作“料仓架ID”)的代码显示部(57)，料仓架ID和各料仓架的规格数据建立关联并登记在主机(62)的数据库中。将收容有晶片张设体(35)的料仓架搭载于料仓升降部(34)上时，由读取器(58)从该料仓架的代码显示部(57)读取料仓架ID并传送给主机(62)，检索主机(62)的数据库，取得与料仓架ID对应的料仓架的规格数据并向裸片供给装置(12)传送，控制通过升降机构(49)使该料仓架升降的升降动作。

公开(公告)号：CN106298601A

公开(公告)日：2017-01-04

申请号：CN201610878078.2

申请日：2016-10-08

申请人： 无锡宏纳科技有限公司

发明人： 吕耀安

IPC分类号： H01L21/673

CPC分类号： H01L21/6732

摘要： 本发明涉及一种晶圆储存筒，包括内筒及外圈，所述内筒的中心具有套孔，内筒的周面间隔设有多个安放槽，所述外圈上设有与所述安放槽对应的卡槽，所述安放槽的径向长度大于所述外圈的径向长度，所述晶圆放置于所述安放槽与卡槽之间。本发明中，晶圆围绕放置在储存筒上，结构紧凑，占用空间小，仓储成本低。

公开(公告)号：CN104661941B

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201380048812.7

申请日：2013-09-16

申请人： 可隆工业株式会社

发明人： 朴昌远 ,  柳得洙 ,  金京和 ,  金兑径 ,  金秀祉

IPC分类号： B65H1/02 ,  B65D85/48

CPC分类号： B65H1/04 ,  B65H2405/1112 ,  B65H2405/114 ,  B65H2701/1125 ,  B65H2701/1928 ,  H01L21/6732

摘要： 本发明涉及在上下方向堆叠光学片时能够最大限度地减少光学片之间的弯曲及褶皱的光学片堆叠装置。本发明涉及的光学片堆叠装置，其特征在于，包括：底座部，具备用于以上下方向堆叠多个光学片的平坦的上表面、第一边缘、与所述第一边缘垂直的第二边缘、位于所述第一边缘的对面的第三边缘以及与所述第三边缘垂直的第四边缘；一个以上的第一排列构件，沿着垂直方向直立于所述底座部的第一边缘；一个以上的第二排列构件，沿着垂直方向直立于所述底座部的第二边缘，在所述底座部的第三边缘形成有一个以上的槽部，所述光学片具备第一边缘、与所述第一边缘垂直的第二边缘、位于所述第一边缘的对面的第三边缘以及与所述第三边缘垂直的第四边缘，在所述光学片的第三边缘形成有一个以上的组装用凸块，多个光学片以在所述底座部的槽部重叠放置光学片的组装用凸块的方式，堆叠在底座部的上表面。

公开(公告)号：CN103140922B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201280003129.7

申请日：2012-03-26

申请人： 松下知识产权经营株式会社

发明人： 岩井哲博

IPC分类号： H01L21/677 ,  C23C16/44 ,  H01L21/3065

CPC分类号： B05C13/00 ,  B44C1/227 ,  C23C16/50 ,  H01L21/6732 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

摘要： 本发明公开一种实现等离子处理装置的小型化或设置面积的减少的等离子处理装置。干蚀刻装置(1)具备贮存部(13)，该贮存部(13)包含收纳有托盘(3)的盒(62)，该托盘(3)收容有基板(2)且可搬运。在收容有托盘(3)的搬运机构(15)的搬运部(12)内设置旋转台(33)。使载置有干蚀刻前的托盘(3)的旋转台(33)旋转，通过凹口检测传感器(44)检测凹口(3c)，由此进行托盘(3)的旋转角度位置调整。

公开(公告)号：CN105489532A

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201511021420.9

申请日：2015-12-31

申请人： 北京七星华创电子股份有限公司

发明人： 徐冬

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/673

CPC分类号： H01L21/67265 ,  H01L21/6732

摘要： 本发明提供了一种半导体设备的硅片承载装置中硅片的安全放置方法，通过示教数据设置机械手的运动轨迹和位置，利用机械手片叉上的传感器组来探测片叉和硅片之间的距离测量值，根据距离测量值来计算判断硅片所在平面与机械手的片叉所在平面的截交线方程并据此计算出硅片相对于片叉的倾斜角，从而判断硅片是否会产生滑动，确保硅片放置后不产生滑动。因此，本发明实现了在放片过程中对硅片的位姿进行了判断，从而避免机械手片叉触碰到硅片导致硅片受损，提高了放片过程的安全性。

公开(公告)号：CN103359407B

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201310289043.1

申请日：2013-07-11

申请人： 深圳市华星光电技术有限公司

发明人： 汪永强 ,  林昆贤 ,  齐明虎 ,  杨卫兵 ,  陈增宏 ,  舒志优 ,  蒋运芍 ,  杨国坤 ,  李晨阳子

IPC分类号： B65D85/48

CPC分类号： H01L21/6732 ,  B65D85/38 ,  B65D85/48 ,  H01L21/6734

摘要： 本发明实施例公开了一种卡匣，包括：一立体框架，所述立体框架包括：至少两立柱组合，每一所述立柱组合包括：第一立柱；以及第二立柱；至少一支撑架，所述支撑架的部分或全部置于所述立体框架内，所述支撑架和所述立柱组合连接；以及至少一调节构件，用于调节所述支撑架与所述立柱组合连接的紧密度。本发明实施例的卡匣能够调节用于支撑基板等物品的结构的张力，使得该结构能够保持平直的状态。

公开(公告)号：CN104661941A

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201380048812.7

申请日：2013-09-16

申请人： 可隆工业株式会社

发明人： 朴昌远 ,  柳得洙 ,  金京和 ,  金兑径 ,  金秀祉

IPC分类号： B65H1/02 ,  B65D85/48

CPC分类号： B65H1/04 ,  B65H2405/1112 ,  B65H2405/114 ,  B65H2701/1125 ,  B65H2701/1928 ,  H01L21/6732

摘要： 本发明涉及在上下方向堆叠光学片时能够最大限度地减少光学片之间的弯曲及褶皱的光学片堆叠装置。本发明涉及的光学片堆叠装置，其特征在于，包括：底座部，具备用于以上下方向堆叠多个光学片的平坦的上表面、第一边缘、与所述第一边缘垂直的第二边缘、位于所述第一边缘的对面的第三边缘以及与所述第三边缘垂直的第四边缘；一个以上的第一排列构件，沿着垂直方向直立于所述底座部的第一边缘；一个以上的第二排列构件，沿着垂直方向直立于所述底座部的第二边缘，在所述底座部的第三边缘形成有一个以上的槽部，所述光学片具备第一边缘、与所述第一边缘垂直的第二边缘、位于所述第一边缘的对面的第三边缘以及与所述第三边缘垂直的第四边缘，在所述光学片的第三边缘形成有一个以上的组装用凸块，多个光学片以在所述底座部的槽部重叠放置光学片的组装用凸块的方式，堆叠在底座部的上表面。

公开(公告)号：CN104364891A

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201380030256.0

申请日：2013-06-10

申请人： 川崎重工业株式会社

发明人： 坂东贤二 ,  福田拓也 ,  玉田聪一

IPC分类号： H01L21/677 ,  B65G19/02 ,  B65G49/06

CPC分类号： H01L21/67778 ,  B65G19/02 ,  B65G49/065 ,  H01L21/6732 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67784

摘要： 具备：包括可动棚（21）和使可动棚（21）下降的升降装置（22）的基板供给装置（2）；包括向上方吹出气体的一个以上的吹出口（35），且吹出口形成为当通过升降装置使可动棚下降时通过从吹出口吹出的气体的压力使支持于可动棚的基板浮起的结构的浮起装置（3）；和包括搬运输送机（40）和在搬运输送机上竖立设置的爪部（41），且形成为爪部将通过从吹出口吹出的气体的压力浮起的基板（W）向搬运方向推动的结构的搬运装置（4）。

公开(公告)号：CN103996645A

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN201410053519.6

申请日：2014-02-17

申请人： 株式会社迪思科

发明人： 出岛信和 ,  竹内雅哉 ,  大石清辉 ,  冲本裕二 ,  德满直哉 ,  驹场豪

IPC分类号： H01L21/673

CPC分类号： H01L21/6732

摘要： 本发明提供一种盒组合体，其能够使少量的被加工物按品种进行组合。盒组合体用于收纳晶片单元，盒组合体由第1和第2盒构成，第1和第2盒分别具有：第1侧板和第2侧板，它们隔开规定的间隔平行配设并在相互对置的位置分别设置有多个被加工物支承槽；顶板，其连结第1侧板和第2侧板的上端部；底板，其连结第1侧板和第2侧板的下端部；以及出入开口，其设置在第1侧板、第2侧板、顶板和底板的前端侧，用于使被加工物进出，第1盒和第2盒构成为能够相互层叠并具有在层叠状态下进行相互固定的固定单元。

公开(公告)号：CN103959440A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201280056766.0

申请日：2012-11-16

申请人： 株式会社EUGENE科技

发明人： 梁日光 ,  诸成泰 ,  宋炳奎 ,  金龙基 ,  金劲勋 ,  申良湜

IPC分类号： H01L21/20

CPC分类号： H01L21/67115 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/4585 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/6732 ,  H01L21/67757

摘要： 根据本发明的一实施方案，实现在基板上形成外延层的外延工艺的外延装置，其包括：下部腔室，其上部打开，并在一侧形成有使所述基板进出的通道；外部反应管，其用于关闭所述下部腔室中打开的上部，并提供实现所述外延工艺的工艺空间；基板支架，其在上下方向载置一个以上的所述基板，且可以转换到载置所述基板的载置位置、和实现对所述基板的所述工艺的工艺位置；一个以上的供应喷嘴，其沿着所述外部反应管的内壁配置，并具有用于喷射所述反应气体的供应口；和一个以上的排气喷嘴，其沿着所述外部反应管的内壁配置，并具有用于吸入所述工艺空间内的未反应气体及反应副产物的排气口；以及后方排气线，其连接于所述排气喷嘴，并用于排出通过所述排气口吸入的所述未反应气体及所述反应副产物，其中，所述下部腔室具有将所述排气喷嘴和所述后方排气线连接的排气端口、和将形成在所述下部腔室内部的载置空间连接于所述后方排气线的辅助排气端口。