公开(公告)号：CN109690270A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780056516.X

申请日：2017-09-22

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 谷本一洋 ,  三冢雅彦 ,  吉田光伸

IPC: G01L1/16 ,  H01L41/053 ,  H01L41/087 ,  H01L41/113 ,  H01L41/193

Abstract: 本发明具有通过接触而被加压的加压部、与前述加压部相邻地设置的压电基材、和与前述压电基材相邻且被设置于前述加压部的相对侧的基部，将前述加压部的与前述压电基材相邻的方向上的厚度记为da，将前述加压部的利用动态粘弹性测定得到的储能模量记为E’a，将前述基部的前述相邻的方向上的厚度记为db，将前述基部的利用动态粘弹性测定得到的储能模量记为E’b时，满足下述关系式(a)。da/E’a＜db/E’b···式(a)。

公开(公告)号：CN104981760B

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201480006732.X

申请日：2014-01-28

Applicant: 三井化学株式会社 ,  株式会社村田制作所

Inventor： 谷本一洋 ,  吉田光伸 ,  西川茂雄

IPC: G06F3/041 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13363 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02

CPC classification number: G02B5/30 ,  B32B27/36 ,  B32B2307/20 ,  B32B2307/40 ,  B32B2307/42 ,  B32B2307/704 ,  B32B2367/00 ,  C08G63/02 ,  C08G63/06 ,  C08G63/08 ,  C08K5/00 ,  C08K5/005 ,  C08K5/1515 ,  C08K5/29 ,  C08L67/04 ,  G02F1/13338 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/133528 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/133636 ,  G02F2001/133394 ,  G02F2001/13356 ,  G02F2001/133562 ,  G02F2001/133638 ,  H01L41/00 ,  H01L41/04 ,  H01L41/08 ,  H01L41/0805 ,  H01L41/16 ,  H01L41/18 ,  H01L41/193 ,  H01L41/35 ,  H01L41/45 ,  H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/5293 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31565 ,  Y10T428/31786

Abstract: 本发明提供一种显示装置，其具备包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)的结晶性高分子压电层、满足下述式1的光学补偿层、和直线起偏器。(式1)：|0.06×Xc×MORc×d+Rth|≤500〔在式1中，Xc表示上述结晶性高分子压电层的由DSC法得到的结晶度(％)，MORc表示上述结晶性高分子压电层的由微波透射型分子取向计测定得到的将基准厚度设为50μm时的标准化分子取向，d表示上述结晶性高分子压电层的厚度(μm)，Rth表示波长550nm时的上述光学补偿层的厚度方向的相位差(nm)。〕。

公开(公告)号：CN107078208A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580059650.6

申请日：2015-10-16

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 佐藤圭祐 ,  谷本一洋 ,  太田浩二 ,  尾崎胜敏 ,  大西克己

IPC: H01L41/193 ,  B29C55/04 ,  H01L41/083 ,  H01L41/27 ,  H01L41/45

Abstract: 高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，对于所述高分子压电膜而言，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为3.5～15.0，利用在线膜厚计测得的表示膜的宽度方向的位置与膜的厚度的关系的波形中，每1000mm膜宽的下述峰A的个数为20个以下。峰A：峰高为1.5μm以上，并且，峰斜率为0.000035以上。

公开(公告)号：CN104335376B

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：CN201380029287.4

申请日：2013-06-03

Applicant: 三井化学株式会社 ,  株式会社村田制作所

Inventor： 谷本一洋 ,  吉田光伸 ,  清水正树 ,  西川茂雄 ,  田实佳郎

IPC: H01L41/047 ,  C08G63/06 ,  H01L41/083 ,  H01L41/193 ,  H01L41/293 ,  H01L41/297 ,  H01L41/45 ,  C08L101/16

CPC classification number: H01L41/193 ,  C08G63/08 ,  H01L41/047 ,  H01L41/0471 ,  H01L41/083 ,  H01L41/0933 ,  H01L41/277 ,  H01L41/297 ,  Y10T29/42

Abstract: 本发明中，提供一种压电器件，其具有：至少一层的膜状高分子压电材料；在高分子压电材料的主面设置的第1导电体；在高分子压电材料的与主面的第1导电体相反侧的面设置的第2导电体；设置在高分子压电材料的宽度方向的一方的端面上，并以与第1导电体导通且不与第2导电体接触的方式配置的第1端面导电体；和设置在高分子压电材料的一方的端面以外的另一方的端面上，并以与第2导电体导通且不与第1导电体和第1端面导电体接触的方式配置的第2端面导电体。

公开(公告)号：CN106575699A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201580042591.1

申请日：2015-07-10

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 谷本一洋 ,  佐藤圭祐 ,  北河敏久 ,  尾崎胜敏

IPC: H01L41/193 ,  C08J5/18

CPC classification number: C08G63/06 ,  B29C55/16 ,  B29C71/02 ,  C08G63/08 ,  C08J5/18 ,  H01L41/193 ,  H01L41/45

Abstract: 本发明提供一种高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与上述结晶度的乘积为25～700，至少一个面的表面粗糙度以利用激光共聚焦显微镜测得的非接触三维表面粗糙度Sa计为0.040μm～0.105μm。

公开(公告)号：CN105723534A

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201480062426.8

申请日：2014-11-10

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 谷本一洋 ,  吉田光伸 ,  西川茂雄

IPC: H01L41/193 ,  C08G63/06 ,  H01L41/33 ,  H01L41/45

CPC classification number: H01L41/193 ,  C08G63/06 ,  H01L41/333 ,  H01L41/45

Abstract: 本发明提供一种高分子压电材料，所述高分子压电材料包含重均分子量为5万～100万、利用下式算出的光学纯度高于97.0％ee且低于99.8％ee的螺旋手性高分子(A)，所述高分子压电材料于25℃利用应力－电荷法测得的压电常数d14为1pC/N以上。式：光学纯度(％ee)＝100×|L体量－D体量|/(L体量+D体量)〔其中，L体的量〔质量％〕和光学活性高分子的D体的量〔质量％〕是通过利用了高效液相色谱法(HPLC)的方法而得到的值。〕。

公开(公告)号：CN105229436A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201480026467.1

申请日：2014-05-16

Applicant: 三井化学株式会社 ,  株式会社村田制作所

Inventor： 吉田光伸 ,  谷本一洋 ,  西川茂雄

IPC: G01L1/16 ,  C08L67/04 ,  G06F3/041 ,  H01L41/113 ,  H01L41/193

CPC classification number: G06F3/0414 ,  C08L67/04 ,  G01L1/16 ,  G06F3/041 ,  G06F2203/04105 ,  H01L41/1132 ,  H01L41/193

Abstract: 本发明提供一种按压检测装置，其具有被加压构件和压电构件，所述被加压构件具有接触面，所述接触面通过与加压机构接触而被施加压力，所述压电构件与上述被加压构件相向配置，且包含高分子压电材料，所述高分子压电材料的在25℃下通过位移法测得的压电常数d14为1pm/V以上，上述被加压构件的截面惯性矩Ib和杨氏模量Eb的积IEb，与上述压电构件的截面惯性矩Ia和杨氏模量Ea的积IEa之比IEb/IEa在102～1010的范围内。

公开(公告)号：CN109690270B

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN201780056516.X

申请日：2017-09-22

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 谷本一洋 ,  三冢雅彦 ,  吉田光伸

IPC: G01L1/16 ,  H01L41/053 ,  H01L41/087 ,  H01L41/113 ,  H01L41/193

Abstract: 本发明具有通过接触而被加压的加压部、与前述加压部相邻地设置的压电基材、和与前述压电基材相邻且被设置于前述加压部的相对侧的基部，将前述加压部的与前述压电基材相邻的方向上的厚度记为da，将前述加压部的利用动态粘弹性测定得到的储能模量记为E’a，将前述基部的前述相邻的方向上的厚度记为db，将前述基部的利用动态粘弹性测定得到的储能模量记为E’b时，满足下述关系式(a)。da/E’a＜db/E’b···式(a)。

公开(公告)号：CN108698371B

公开(公告)日：2020-08-28

申请号：CN201780014912.6

申请日：2017-03-08

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 谷本一洋 ,  关野裕幸 ,  天野正己

IPC: B32B7/06 ,  B32B7/025 ,  C08L67/04 ,  H01L41/053 ,  H01L41/09 ,  H01L41/113 ,  H01L41/193

Abstract: 层叠体，其具有高分子膜(A)和保护膜(B)，所述高分子膜(A)包含重均分子量为5万～100万的有机压电材料，利用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为1.0～15.0，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，相对于可见光线的内部雾度为50％以下，所述保护膜(B)与前述高分子膜(A)的一个主面接触且可剥离，利用纳米压痕法对前述保护膜(B)的与前述高分子膜(A)接触的面侧进行测定时的最大压入深度hmax为53nm～100nm。

公开(公告)号：CN109314179A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780035062.8

申请日：2017-06-05

Applicant: 三井化学株式会社 ,  株式会社村田制作所

Inventor： 吉田光伸 ,  谷本一洋 ,  大西克己 ,  西川茂雄 ,  安藤正道

IPC: H01L41/193 ,  G01L1/16 ,  H01L41/087 ,  H01L41/09 ,  H01L41/113 ,  H01L41/45

Abstract: 压电基材，其具备沿一个方向卷绕成螺旋状的长条状的第1压电体，而不具备芯材，其中，前述第1压电体包含具有光学活性的螺旋手性高分子(A)，前述第1压电体的长度方向与前述第1压电体中包含的螺旋手性高分子(A)的主取向方向大致平行，利用X射线衍射测定而由下述式(a)求出的前述第1压电体的取向度F为0.5以上且小于1.0的范围。取向度F＝(180°-α)/180°··(a)，其中，α表示来自取向的峰的半值宽度。