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公开(公告)号:CN100549218C
公开(公告)日:2009-10-14
申请号:CN200580019502.8
申请日:2005-06-03
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: C23C14/246 , C23C14/12 , C23C14/243 , H01L51/0008
Abstract: 一种将材料蒸发到基材表面以形成膜的方法,包括提供一定量的材料到蒸发装置中,在处于第一温度条件的该蒸发装置中加热该材料,和施加作用于一部分材料的热脉冲以引起材料的该部分蒸发并且被施加到基材表面。
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公开(公告)号:CN101548410A
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200780043644.7
申请日:2007-11-15
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/12 , H01L51/001 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 在OLED基板(40)上沉积有机材料的方法,包括:提供接收气化有机材料的歧管(10),该歧管包括含开孔的孔板,选择孔板开孔,以提供对准基板(40)的气化有机材料束(50),这些束(50)含有偏轴成分(60);提供置于OLED基板(40)与歧管(10)之间的掩模(80),该掩模(80)含开孔,这些开孔分别对应于孔板开孔,选择掩模开孔,以挡去束(50)内至少部分偏轴成分(60)。
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