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公开(公告)号:CN104203557B
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201380010399.5
申请日:2013-02-20
Applicant: 帝人株式会社 , 东海旅客铁道株式会社
CPC classification number: C08J7/04 , B05D3/0263 , B05D3/029 , B05D3/0473 , B05D3/068 , B05D3/145 , B05D3/147 , B05D7/54 , B05D2425/01 , C08J2333/04 , C08J2383/04 , C23C26/00 , Y10T428/25 , Y10T428/256 , Y10T428/257 , Y10T428/258 , Y10T428/259 , B05D2401/32 , B05D2601/24
Abstract: 本发明的目的在于,得到一种对沙尘等的物理刺激具有优异的耐磨损性的层叠体。本发明是依次层叠有基材层、硬涂层和由鳞片状的金属氧化物微粒形成的顶涂层的层叠体。本发明的特征在于,利用选自电离物质线照射、电离放射线照射、红外线照射、微波照射和高温水蒸气曝露中的至少1种方法将鳞片状的金属氧化物微粒固化来形成顶涂层。
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公开(公告)号:CN111741999B
公开(公告)日:2022-12-09
申请号:CN201980012745.0
申请日:2019-02-12
Applicant: 帝人株式会社
Inventor: 浴中达矢
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使在严酷的使用环境下也能够长期维持功能性微粒的特性且耐磨损性也优异的带硬涂层的基材的制造方法。所述带硬涂层的基材的制造方法的特征在于,(1)在基材上以满足下述式(a)的方式且以半固化状态设置以树脂为主成分的硬涂层,12≤X≤600(a)(式中,X表示使在厚度3mm的浮法钠钙玻璃的单面层叠10μm厚的半固化状态的硬涂层而成的带硬涂层的玻璃在40℃环境下浸渍于N-甲基吡咯烷酮溶剂时,至该带硬涂层的玻璃的(Δ)雾度超过5%为止所需的时间(秒)。);(2)在所述半固化状态的硬涂层上涂布将功能性微粒分散于满足下述式(b)的溶剂而成的分散液,12≤X×(A+0.2)2≤90(b)(式中,X表示式(a)中所述的X。A表示分散液溶剂的溶解性参数(MPa0.5)与N-甲基吡咯烷酮的溶解性参数(22.3MPa0.5)的差。);(3)使所述半固化状态的硬涂层完全固化。
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公开(公告)号:CN111741999A
公开(公告)日:2020-10-02
申请号:CN201980012745.0
申请日:2019-02-12
Applicant: 帝人株式会社
Inventor: 浴中达矢
Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使在严酷的使用环境下也能够长期维持功能性微粒的特性且耐磨损性也优异的带硬涂层的基材的制造方法。所述带硬涂层的基材的制造方法的特征在于,(1)在基材上以满足下述式(a)的方式且以半固化状态设置以树脂为主成分的硬涂层,12≤X≤600 (a)(式中,X表示使在厚度3mm的浮法钠钙玻璃的单面层叠10μm厚的半固化状态的硬涂层而成的带硬涂层的玻璃在40℃环境下浸渍于N-甲基吡咯烷酮溶剂时,至该带硬涂层的玻璃的(Δ)雾度超过5%为止所需的时间(秒)。);(2)在所述半固化状态的硬涂层上涂布将功能性微粒分散于满足下述式(b)的溶剂而成的分散液,12≤X×(A+0.2)2≤90 (b)(式中,X表示式(a)中所述的X。A表示分散液溶剂的溶解性参数(MPa0.5)与N-甲基吡咯烷酮的溶解性参数(22.3MPa0.5)的差。);(3)使所述半固化状态的硬涂层完全固化。
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公开(公告)号:CN106132694A
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201580016029.1
申请日:2015-03-27
CPC classification number: C08J7/045 , B05D3/0254 , B05D7/02 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2369/00 , C08J2433/08 , C08J2483/04 , C09D183/04 , C23C16/02 , C23C16/0254 , C23C16/0272 , C23C16/401 , C23C16/402 , C23C16/45565 , C23C16/45572 , C23C16/50 , C23C16/5096 , C23C16/56 , C23C18/122 , C23C18/1233 , C23C18/1254 , H01J37/32091 , C08K3/36
Abstract: 本发明实现兼具高的耐环境性和高度的耐磨性的带有硬涂层的高分子基板。一种带有硬涂层的高分子基板,具备厚度1~20mm的高分子基板(60)以及在其表面上的硬涂层(70、80)。该带有硬涂层的高分子基板中,硬涂层(70、80)具备基底固化层(70)和氧化硅层(80)而成:基底固化层(70)层叠于高分子基板的表面上,含有有机硅化合物的水解缩合物作为主成分,厚度为0.1~20μm,氧化硅层(80)在与高分子基板为相反侧与基底固化层直接接触,通过有机硅化合物的PE‑CVD法而形成,且满足下述(a)~(c)的全部条件:(a)氧化硅层的膜厚为3.5~9.0μm的范围;(b)在最大负荷1mN条件下利用纳米压痕测定的氧化硅层的表面的最大压入深度为150nm以下;(c)在给予将层叠有氧化硅层的面成为凹的压入位移的带有硬涂层的高分子基板的3点弯曲试验中,氧化硅层的临界压缩率K的值为0.975以下。
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