公开(公告)号：CN103097945A

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201180037963.3

申请日：2011-07-27

Applicant: 夏普株式会社 ,  东洋合成工业株式会社

Inventor： 水崎真伸 ,  仲西洋平 ,  野间健史 ,  山田祐一郎 ,  榎本智至 ,  原祐树 ,  菊地英夫

IPC: G02F1/1337 ,  C08F20/20

CPC classification number: G02F1/133711 ,  B05D5/12 ,  B32B2457/202 ,  C08F220/18 ,  C08F222/1006 ,  Y10T428/1005 ,  Y10T428/1014

Abstract: 本发明提供一种难以发生影像残留的液晶显示装置。本发明的液晶显示装置具备一对基板和被夹持于上述一对基板间的液晶层，上述液晶层含有具有负的介电常数各向异性的液晶材料，上述一对基板中的至少一个基板具有：使接近的液晶分子垂直取向的取向膜；和在上述取向膜上形成并对接近的液晶分子进行取向控制的聚合物层，上述聚合物层是至少1种单体通过吸收光产生自由基并聚合而形成的。

公开(公告)号：CN105339457A

公开(公告)日：2016-02-17

申请号：CN201480036174.1

申请日：2014-06-23

Applicant: 东洋合成工业株式会社

Inventor： 榎本智至

IPC: C09K3/00 ,  G03F7/028 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07D335/16 ,  C07C33/24 ,  C07C35/38 ,  C07C35/40 ,  C07C43/23 ,  C07C49/83 ,  C07C2603/18 ,  C07C2603/24 ,  C07D219/06 ,  C07D309/12 ,  C07D311/86 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/36 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/3081

Abstract: 本发明公开了一种增强光酸产生剂的酸产生的试剂和含有所述试剂的组合物。

公开(公告)号：CN105308146A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201480027633.X

申请日：2014-05-13

Applicant: 东洋合成工业株式会社

Inventor： 榎本智至

IPC: C09K3/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C33/24 ,  C07C35/38 ,  C07C35/40 ,  C07C49/83 ,  C07C2603/18 ,  C07D219/06 ,  C07D309/12 ,  C07D311/86 ,  C07D335/16 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明描述了一种增强光酸产生剂的酸产生的试剂和含有此类试剂的组合物。

公开(公告)号：CN109843853B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201780063876.2

申请日：2017-10-13

Applicant: 东洋合成工业株式会社

Inventor： 菅优介 ,  榎本智至

IPC: C07C381/12 ,  C07C43/315 ,  C07D317/22 ,  C07D333/76 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明提供适用于使用电子束或极紫外线等第1活性能量线和UV等第2活性能量线这2种活性能量线的光刻工艺用抗蚀剂组合物的、高敏感度且LWR等图案特性优异的鎓盐和组合物。根据本发明，提供由下述通式(1)、下述通式(2)、下述通式(11)、和下述通式(12)中的任一者表示的鎓盐。【化1】

公开(公告)号：CN109843853A

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201780063876.2

申请日：2017-10-13

Applicant: 东洋合成工业株式会社

Inventor： 菅优介 ,  榎本智至

IPC: C07C381/12 ,  C07C43/315 ,  C07D317/22 ,  C07D333/76 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明提供适用于使用电子束或极紫外线等第1活性能量线和UV等第2活性能量线这2种活性能量线的光刻工艺用抗蚀剂组合物的、高敏感度且LWR等图案特性优异的鎓盐和组合物。根据本发明，提供由下述通式(1)、下述通式(2)、下述通式(11)、和下述通式(12)中的任一者表示的鎓盐。【化1】

公开(公告)号：CN105339457B

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201480036174.1

申请日：2014-06-23

Applicant: 东洋合成工业株式会社 ,  国立大学法人大阪大学

Inventor： 榎本智至

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  C09K3/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07D335/16 ,  C07C33/24 ,  C07C35/38 ,  C07C35/40 ,  C07C43/23 ,  C07C49/83 ,  C07C2603/18 ,  C07C2603/24 ,  C07D219/06 ,  C07D309/12 ,  C07D311/86 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2051 ,  G03F7/36 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/3081

Abstract: 本发明公开了一种增强光酸产生剂的酸产生的试剂和含有所述试剂的组合物。