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公开(公告)号：CN115753959A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211081279.1
申请日：2022-09-05
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G01N27/626 , H01L21/66
Abstract: 本发明提供一种能够分析药液中的微小异物的药液的检查方法、药液的制造方法、药液的管理方法、半导体器件的制造方法、能够分析抗蚀剂组合物中的微小异物的抗蚀剂组合物的检查方法、抗蚀剂组合物的制造方法、抗蚀剂组合物的管理方法、以及能够管理半导体制造装置中的微小异物的半导体制造装置的污染状态确认方法。药液的检查方法包括：准备药液的工序1X；将药液涂布在半导体基板上的工序2X；以及工序3X，测定半导体基板的表面上有无缺陷，获取半导体基板的表面上的缺陷在半导体基板上的位置信息，基于位置信息对半导体基板的表面上的缺陷照射激光，利用载气回收通过照射得到的分析试样并进行电感耦合等离子体质谱分析。
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公开(公告)号：CN102827506B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201210176930.3
申请日：2012-05-31
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09D11/54 , C09D11/322 , C09D11/40
Abstract: 本发明提供了一种油墨组，其至少具有：包含颜料的油墨组合物；以及至少包含有机酸性化合物和包含下式(A)代表的结构单元的聚合物的处理液体。在式(A)中Ra1代表氢原子或甲基；La1代表直接键、-COO-或-CONRa3-，其中Ra3代表氢原子或具有1至30个碳原子的单价基团，其可包含选自醚键、硫醚键和酯键中的至少一种；La2代表直接键或具有1至30个碳原子的二价连接基团，其可包含选自醚键、硫醚键和酯键中的至少一种；并且Aa代表离子基团。式(A)
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公开(公告)号：CN103370381A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201180067579.8
申请日：2011-10-17
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09D11/38 , B41J2/2107 , B41M5/0011 , B41M5/0017 , B41M5/0023 , B41M7/009 , C01P2004/51 , C09C1/56 , C09C1/565 , C09C3/10 , C09D7/62 , C09D11/322 , C09D11/40 , C09D11/54
Abstract: 一种墨水组成物，其含有：颜料，选自由自分散型颜料及颜料的表面的至少一部分由水不溶性树脂包覆而成的树脂包覆颜料所构成的群组；相对于组成物总重量的比率为0.01wt％以上且不足1.00wt％的选自聚乙烯吡咯啶酮、聚乙烯醇、及聚乙二醇的至少1种；非水溶性或水难溶性的树脂粒子，非水溶性或水难溶性的蜡粒子；水。
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公开(公告)号：CN118871864A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202380027341.5
申请日：2023-03-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/16 , G03F7/38 , G03F7/42 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供一种药液，在其用于使被接触物与药液接触的工序中的情况下，被接触物不易产生预定的缺陷。本发明的药液含有：有机溶剂；以及含金属粒子，其包含选自由Fe、Ni及Zn所组成的组中的金属元素，所述药液通过方法X得到的I值为0.010～10.000。方法X：在基板上涂布上述药液而制作被检体，利用激光烧蚀‑电感耦合等离子体‑质谱分析法对被检体的表面扫描激光进行分析，对每个上述金属元素获取横轴为激光的扫描时间及纵轴为离子检测强度的图，将图的上述离子检测强度按照上述扫描时间进行累计，得到每个上述金属元素的累计离子检测强度，将对每个上述金属元素的累计离子检测强度进行合计并设为合计累计离子检测强度，将合计累计离子检测强度除以激光的扫描面积，得到单位为计数/mm2(count/mm2)的I值。
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公开(公告)号：CN116918051A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280016179.2
申请日：2022-02-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供一种能够精确地去除半导体基板的缺陷的缺陷去除装置、缺陷去除方法及图案形成方法、以及使用去除了表面上的缺陷的半导体基板的图案形成方法及电子器件的制造方法。缺陷去除装置具有：表面缺陷测定部，具有射出用于进行半导体基板上的缺陷检测的入射光的第1光源部及根据通过入射光因半导体基板上的缺陷而反射或散射而辐射的辐射光来检测半导体基板上的缺陷的检测部；去除部，根据半导体基板上的缺陷的位置信息，向半导体基板上照射激光而去除缺陷；及对准部，调整入射光和激光的光轴，入射光和激光通过对准部调整光轴并射出到半导体基板上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116762004A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202180091761.0
申请日：2021-12-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G01N27/62
Abstract: 本发明提供一种能够分析半导体基板的表面上的更微小的缺陷的分析装置及分析方法。分析装置具有：表面缺陷测定部，测定半导体基板的表面上的缺陷的有无，关于半导体基板的表面上的缺陷，得到半导体基板的表面上的位置信息；及分析部，根据缺陷在半导体基板的表面上的位置信息对半导体基板的表面上的缺陷照射激光，将通过照射而得到的分析试样利用载气回收并进行电感耦合等离子体质谱分析。
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公开(公告)号：CN107249902B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201680011261.0
申请日：2016-02-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 西塔亮
Abstract: 本发明的目的在于提供一种维持边缘污染防止性能，并且抑制了随时间的经过而引起的物质的渗漏或转印的平版印刷版原版、平版印刷版的制版方法及使用了上述平版印刷版的印刷方法。本发明的平版印刷版原版在支撑体上具有图像记录层，该平版印刷版原版的特征在于，具有下述i～iv中任一个所述的层排列，且在上述层排列的特定位置具有亲水化剂层，该亲水化剂层在上述平版印刷版原版的端部至1cm以内的区域含有亲水化剂，上述图像记录层包含红外线吸收剂和特定自由基聚合性化合物，其中，i：依次具有支撑体层、图像记录层的形态，ii：依次具有支撑体层、底涂层及图像记录层的形态，iii：依次具有支撑体层、图像记录层及保护层的形态，iv：依次具有支撑体层、底涂层、图像记录层及保护层的形态。
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公开(公告)号：CN102827507A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201210177246.7
申请日：2012-05-31
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09D11/322 , C09D11/40 , C09D11/54
Abstract: 本发明提供了一种油墨组，其可以形成不平得到抑制的图像。所述油墨组含有油墨组合物和处理液，其中所述油墨组合物含有树脂颗粒和颜料，所述处理液含有包含下述通式(I)所示化合物的有机酸性化合物，CnH2n+2-m(COOH)m …通式(I)[通式(I)中，n表示2以上的整数，m表示3以上的整数]。本发明还涉及使用了上述油墨组的成像方法。
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公开(公告)号：CN102643568A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201210020271.4
申请日：2012-01-29
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C09D11/40 , B41J2/2107 , C09D11/324 , C09D11/54
Abstract: 本发明公开一种油墨组合物，其含有：碳黑；选自由青色颜料和品红色颜料组成的组中的至少一者；占所述组合物总量的大于或等于0.01质量％而小于1.00质量％的选自由聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇和聚乙二醇组成的组中的至少一者；非水溶性或基本上非水溶性的树脂颗粒、非水溶性或基本上非水溶性的蜡颗粒、或它们的任意混合物；以及水。本发明还公开了油墨组和成像方法。
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公开(公告)号：CN102344718A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201110216995.1
申请日：2011-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 西塔亮
IPC: C09D11/10
CPC classification number: C09D11/322 , B41M7/0018 , B41M7/009 , C09B67/0013 , C09B67/009 , C09D11/324 , C09D11/40 , C09D11/54
Abstract: 本发明提供一种墨水组合物，墨水组和图像形成方法。所述墨水组合物包含：第一颜料粒子，所述第一颜料粒子选自自分散性炭黑和至少一部分被覆有水不溶性树脂的炭黑，所述第一颜料粒子的量相对于所述墨水组合物的总质量为1质量％至5质量％；第二颜料粒子，所述第二颜料粒子由至少一部分被覆有水不溶性树脂的青色颜料形成，所述第二颜料粒子相对于所述第一颜料粒子的量为1质量％至50质量％；水不溶性树脂粒子A；和水。
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