具有表面钝化层的玻璃陶瓷制品及其生产方法

    公开(公告)号:CN115996899A

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202180046577.4

    申请日:2021-06-28

    Abstract: 提供的玻璃陶瓷制品包含表面钝化层。钝化层是氧化物层且具有大于或等于20nm至小于或等于200nm的厚度以及小于或等于3nm的RMS表面粗糙度。可以通过液相沉积工艺形成表面钝化层。玻璃陶瓷制品可以包括布置在表面钝化层上的易清洁层,以及玻璃陶瓷制品可以经过化学强化。玻璃陶瓷制品可以用于消费者电子产品。

    具有裂纹减缓的单和多层膜以保留制品强度和耐划痕性的玻璃基制品

    公开(公告)号:CN110099877B

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN201780079136.8

    申请日:2017-12-11

    Abstract: 一种制品,其包括基于玻璃的基材,所述基于玻璃的基材具有:相对主表面;布置在所述主表面中的一个上的裂纹减缓堆叠;和布置在裂纹减缓堆叠上的耐划痕膜,该膜的弹性模量大于或等于基材的弹性模量。堆叠包括一个或多个双层,双层定义如下:(a)包含有机硅酸盐/酯材料的第一层,和(b)在第一层上的包含有机硅酸盐/酯材料的第二层,所述第一层的弹性模量低于所述第二层的弹性模量。膜包括以下至少一种:含金属的氧化物、含金属的氧氮化物、含金属的氮化物、含金属的碳化物、含硅聚合物、碳、半导体,及其组合。此外,制品的特征在于,平均挠曲强度至少是基材的平均挠曲强度的70%。

    纹理化玻璃制品及其制造方法

    公开(公告)号:CN114269706A

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN202080057474.3

    申请日:2020-08-06

    Abstract: 本文描述了纹理化玻璃制品的制造方法,该方法包括:用pH约为3或更小的不含氢氟酸的蚀刻剂对具有厚度的玻璃基材的初始主表面进行蚀刻;以及从玻璃基材去除蚀刻剂,从而使得:从高于环境温度至约100℃进行蚀刻从而形成这样的纹理化区域,所述纹理化区域被基材的主表面所限定并且包括2%或更小的闪光,以及蚀刻包括多次批料循环。

    用于处理玻璃表面以减少颗粒附着的方法

    公开(公告)号:CN108473365B

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN201680057506.3

    申请日:2016-09-29

    Abstract: 本文公开了用于处理玻璃基材的方法,所述方法包括使玻璃基材的表面与包含至少一种烃的等离子体进行一段时间的接触,所述时间的接触足以在该表面的至少一部分上形成涂层。本文还公开了玻璃基材,其包含至少一个表面,其中,该表面的至少一部分涂覆有包含至少一种烃的层,其中,该表面的经过涂覆的部分具有约15度至约95度范围内的接触角,并且/或者具有小于约65mJ/m2的表面能。

    用于片材结合的硅氧烷等离子体聚合物

    公开(公告)号:CN109922952A

    公开(公告)日:2019-06-21

    申请号:CN201780066372.6

    申请日:2017-08-29

    Abstract: 本文描述了包括薄片和载体的玻璃制品及制造玻璃制品的方法,其中,所述薄片和载体利用涂层及相关的沉积方法和惰性气体处理物而结合在一起,所述涂层优选为有机硅氧烷聚合物涂层,所述惰性气体处理物可以施加在薄片上、载体上或薄片和载体上,以控制薄片与载体之间的范德化结合、氢键结合和共价结合。所述涂层将薄片与载体结合在一起,以防止在高温加工下永久结合,但同时保持充分的结合以防止高温加工期间剥离。

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