用于制造纹理化玻璃制品的蚀刻剂

    公开(公告)号:CN117925242A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202211271275.X

    申请日:2022-10-17

    Abstract: 本申请涉及用于制造纹理化玻璃制品的蚀刻剂。蚀刻剂包含:大于或等于20重量%且小于或等于45重量%的氟化氢铵;大于或等于0.25重量%且小于或等于10重量%的硅化合物;大于或等于5重量%且小于或等于30重量%的盐酸;大于或等于25重量%且小于或等于60重量%的水;以及大于或等于0.5重量%且小于或等于20重量%的多羟基醇。硅化合物包括:二氧化硅、二氧化硅凝胶、六氟硅酸铵、六氟硅酸钾、六氟硅酸钠、六氟硅酸镁或其组合。

    具有裂纹减缓的单和多层膜以保留制品强度和耐划痕性的玻璃基制品

    公开(公告)号:CN110099877A

    公开(公告)日:2019-08-06

    申请号:CN201780079136.8

    申请日:2017-12-11

    Abstract: 一种制品,其包括基于玻璃的基材,所述基于玻璃的基材具有:相对主表面;布置在所述主表面中的一个上的裂纹减缓堆叠;和布置在裂纹减缓堆叠上的耐划痕膜,该膜的弹性模量大于或等于基材的弹性模量。堆叠包括一个或多个双层,双层定义如下:(a)包含有机硅酸盐/酯材料的第一层,和(b)在第一层上的包含有机硅酸盐/酯材料的第二层,所述第一层的弹性模量低于所述第二层的弹性模量。膜包括以下至少一种:含金属的氧化物、含金属的氧氮化物、含金属的氮化物、含金属的碳化物、含硅聚合物、碳、半导体,及其组合。此外,制品的特征在于,平均挠曲强度至少是基材的平均挠曲强度的70%。

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