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公开(公告)号：CN105121346B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201480019436.3
申请日：2014-03-28
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 提供可制造缺陷少的沸石膜的沸石膜制造方法、缺陷少的八元氧环沸石膜、以及可以评价缺陷的八元氧环沸石膜的评价方法。在多孔体的表面附着沸石晶种前，作为前处理，将多孔体在氧存在下进行400℃以上的加热处理，加热处理后在湿度30％以上的环境下保存12小时以上，然后，使沸石晶种附着于多孔体，制造沸石膜。将多孔体加热处理而制造的八元氧环沸石膜，其CF4的透过速度除以CO2的透过速度得到的值在0.015以下，缺陷较少。
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公开(公告)号：CN104755155B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201380057371.7
申请日：2013-11-01
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01J29/90 , B01D63/066 , B01D65/02 , B01D69/12 , B01D71/025 , B01D71/028 , B01D2321/32 , B01D2325/12 , B01J29/70 , B01J35/002 , B01J35/04 , B01J35/065 , B01J38/02 , B01J2229/40 , B01J2229/64 , C01B39/48
Abstract: 提供一种使暴露于水中后的沸石膜再生的、简易的沸石膜的再生方法。沸石膜的再生方法是在陶瓷多孔体上成膜、进行结构导向剂的去除处理的沸石膜的再生方法。该方法中，在陶瓷多孔质体与沸石膜的热膨胀量的比例之差，以40℃为基准时为0.3％以下的温度的再生温度下进行加热。再生温度优选不超过沸石膜成膜时使用的结构导向剂的氧化热分解温度的温度。
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公开(公告)号：CN106102879A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201580012179.5
申请日：2015-02-13
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 整体型分离膜结构体(100)包括：多孔的整体型基材(200)和分离膜(300)。整体型基材(200)具有：第一端面(210a)、第二端面(210b)、分别从第一端面(210a)贯通至第二端面(210b)的多个贯通孔(210d)。分离膜(300)形成在多个贯通孔(210d)各自的内表面。分离膜300的表面粗糙度Ra为1μm以下。分离膜300的厚度为5μm以下。
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公开(公告)号：CN104755155A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201380057371.7
申请日：2013-11-01
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01J29/90 , B01D63/066 , B01D65/02 , B01D69/12 , B01D71/025 , B01D71/028 , B01D2321/32 , B01D2325/12 , B01J29/70 , B01J35/002 , B01J35/04 , B01J35/065 , B01J38/02 , B01J2229/40 , B01J2229/64 , C01B39/48
Abstract: 提供一种使暴露于水中后的沸石膜再生的、简易的沸石膜的再生方法。沸石膜的再生方法是在陶瓷多孔体上成膜、进行结构导向剂的去除处理的沸石膜的再生方法。该方法中，在陶瓷多孔质体与沸石膜的热膨胀量的比例之差，以40℃为基准时为0.3％以下的温度的再生温度下进行加热。再生温度优选不超过沸石膜成膜时使用的结构导向剂的氧化热分解温度的温度。
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公开(公告)号：CN104203377A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380017679.9
申请日：2013-03-29
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D71/02 , B01D63/066 , B01D69/10 , B01D71/024 , C04B38/0006 , C04B38/0019 , C04B2111/00793 , C04B35/00
Abstract: 本发明的课题是提供具备配置有中间层且具有分离层的分离孔单元和未配置中间层的排出孔单元时，难以产生狭缝裂纹的蜂窝形状陶瓷多孔体、其制造方法及蜂窝形状陶瓷分离膜结构体。分离膜结构体1具有隔壁3，该隔壁3由形成有许多细孔的蜂窝形状陶瓷多孔体9构成，通过该隔壁3，形成成为流体流路的孔单元4。作为孔单元4，具备有分离孔单元4a和排出孔单元4b。分离孔单元4a的基材30表面配置有中间层，进一步形成有分离层。中间层具有骨料颗粒互相通过热膨胀系数与骨料颗粒相同或更高的无机粘结剂粘合而成的结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113490541B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202080007307.8
申请日：2020-02-18
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 沸石膜复合体(1)具备：多孔质的支撑体(11)、以及形成在支撑体(11)上的沸石膜(12)。沸石膜(12)具备：覆盖支撑体(11)的低密度层(13)、以及覆盖低密度层(13)的致密层(14)。致密层(14)的沸石结晶相的含有率高于低密度层(13)。像这样，在覆盖支撑体(11)的低密度层(13)上形成致密层(14)，由此，与在支撑体上直接形成致密层的情形相比，能够容易地形成不具有缺陷的较薄的致密层(14)。结果，能够实现具有高透过性能及高分离性能的沸石膜复合体(1)。
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公开(公告)号：CN110913975A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201780090699.7
申请日：2017-05-12
Abstract: 本发明提供一种气体分离装置，其在使用气体分离膜从含有非烃气体的被处理气体中分离非烃气体时，能够抑制运转率下降，并且经济性好。本发明的解决手段是相对于被处理气体的供给路彼此并联地配置第一分离膜组件1和第二分离膜组件2。设置从分离膜组件1(或2)的透过气体流路13(或23)分支、并与用于向分离膜组件2(或1)供给被处理气体的气体供给路径21(或11)合流的再生用气体流路14和15(或者24和25)。在向分离膜组件1供给被处理气体的状态下，将该分离膜组件1的透过气体作为再生用气体经由再生用气体流路14、15向分离膜组件2供给。此时，将分离膜组件2设为非运转状态，进行该分离膜组件2的再生。
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公开(公告)号：CN105073640B
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201480019484.2
申请日：2014-03-26
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 一种DDR型沸石晶体的制造方法，其具有至少混合二氧化硅、水、有机溶剂和作为结构导向剂的1‑金刚烷胺，配制原料溶液的原料溶液配制工序，以及加热处理所述原料溶液生成DDR型沸石晶体的DDR型沸石晶体生成工序；所述有机溶剂为不含胺的有机溶剂，所述原料溶液为不含PRTR物质的原料溶液。本发明提供在原料溶液配制工序中，可不使用高环境负担的物质(PRTR物质)，而容易地溶解结构导向剂的DDR型沸石晶体的制造方法。
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公开(公告)号：CN107148312A
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：CN201580056508.6
申请日：2015-11-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D69/12 , B01D67/0046 , B01D69/02 , B01D71/027 , B01D71/028 , B01D2325/04 , B01D2325/16
Abstract: 分离膜结构体(10)包括多孔质支撑体(20)、形成在多孔质支撑体(20)上的第一分离膜(30)、以及形成在第一分离膜(30)上的第二分离膜(40)。第一分离膜(30)含有Si/Al原子比为200以上的高硅沸石。第二分离膜(40)含有阳离子。
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公开(公告)号：CN106999864A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580060731.8
申请日：2015-12-07
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 分离膜结构体(100)包括：多孔质支撑体(110)、第一玻璃密封(120)、以及分离膜(140)。多孔质支撑体(110)具有与第一端面(S1)和第二端面(S2)相连的第一贯通孔(TH1)。第一玻璃密封(120)具有配置在第一端面(S1)上的第一密封主体部(121)和配置在第一贯通孔(TH1)的内表面上的第一延伸部(122)。分离膜(140)具有与第一延伸部(122)连接的第一连接部(141)。第一连接部(141)的第一厚度(P1)为10μm以下，并且为长度方向中央处的中央厚度(P3)的3.2倍以下。
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