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公开(公告)号：CN101233088A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200680027925.9
申请日：2006-07-31
Applicant: 日立造船株式会社 , 日立造船精密科技股份有限公司
CPC classification number: C25F1/00 , C03C17/002 , C03C2218/328
Abstract: 本发明提供不留伤痕或应力变形等地除去导电性金属氧化物薄膜的方法以及装置。所述装置具有以一端浸渍于电解液17的状态配置的第1电极18；以浸渍于加工槽16内的电解液17的基材12的导电性金属有机物薄膜11为负极的条件，以一端浸渍于电解液17的状态配置，所述一端与导电性金属氧化物薄膜11相对的第2电极13；以该第2电极13为正极、且第1电极18为负极的条件施加直流电压的电源14。在两电极13、18上施加交流电压，通过还原反应除去导电性金属氧化物氧化物薄膜11。本发明可以将导电性金属氧化物氧化物薄膜不发生损伤或应力变形地高效率地除去，能够实现高价的功能性玻璃基板等的再生利用。
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公开(公告)号：CN1950537A
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200580014651.5
申请日：2005-06-15
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/246
Abstract: 一种在规定的真空度下使规定的材料蒸发的蒸发装置(4)，包括：连接到真空泵(12)上，同时，在上壁部(11c)上设置能够放出蒸发的蒸发材料(B)的材料放出孔的蒸发用容器(11)；借助升降用气缸装置(13)可以在该蒸发容器(11)内自由升降地设置、同时能够载置容纳蒸镀材料(A)的材料容纳容器(14)的载置台(15)；在上述蒸发用容器(14)的材料放出孔(17)的周围，设置筒状的间隔壁构件(19)，所述间隔壁构件(19)，通过上述材料容纳容器(14)经由载置台(15)上升时覆盖其外周，抑制蒸发材料向所述蒸发用容器(11)内放出，并且，在上述载置台(15)及间隔壁构件(16)上，具有加热上述材料容纳容器(14)的加热装置(21)。
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公开(公告)号：CN1454119A
公开(公告)日：2003-11-05
申请号：CN00819868.3
申请日：2000-09-04
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: B29B17/02 , B03C7/006 , B03C7/06 , B03C7/10 , B29B2017/0203 , B29B2017/0265 , B29K2023/06 , B29K2023/12 , B29K2027/06 , B29K2033/12 , B29K2067/00 , Y02W30/527 , Y02W30/622
Abstract: 通过在带电摩擦装置的下方，从上到下，分别配置在鼓形电极和对置电极之间形成的分离用静电场的第1静电分离部分和第2静电分离部分，将在第1静电分离部分由分离用静电场分离的塑料片再次投入第2静电分离部分的分离用静电场进行再次分离，提高塑料片的分离纯度和回收率。
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公开(公告)号：CN1325323A
公开(公告)日：2001-12-05
申请号：CN99812872.4
申请日：1999-11-01
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: B03C7/06 , B03C7/006 , B29B17/02 , B29B17/0206 , B29B2017/0203 , B29B2017/0265 , Y02W30/527 , Y02W30/622
Abstract: 加在分选用电极间的电压为Vp(kV),分选用电极间的距离为L(cm),使Vp与L的关系满足Vp/L≤10地进行设定,这样,即使在电极间即电极转鼓1与电极板2之间产生电火花,也可正确地以良好精度进行分选。
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公开(公告)号：CN1287509A
公开(公告)日：2001-03-14
申请号：CN99802029.X
申请日：1999-11-01
Applicant: 日立造船株式会社
CPC classification number: B03C7/06 , B03C7/006 , B29B17/02 , B29B2017/0203 , B29B2017/0265 , B29K2023/06 , B29K2023/12 , B29K2025/00 , B29K2027/06 , Y02W30/527 , Y02W30/622
Abstract: 塑料片(2)由皮带输送机每次以供给量W1向带电装置成批地被供给带电装置(4),在带电装置(4)的内部被搅拌规定时间T后带电,并被成批地排出,由螺旋供料机(20)在每单位时间内以供给量W2连续向鼓电极(5)供给。此时,把鼓电极(5)的圆周速度定为v,鼓电极(5)的宽度定为B,供给到鼓电极(5)上的塑料片(2)的平均厚度定为H,则设定上述供给量W2,以便于满足W1/T≤W2≤v×B×H×D的条件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109074888A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201680084688.3
申请日：2016-12-26
Applicant: 日立造船株式会社
Abstract: 本发明提供喷嘴式电子射线照射装置和电子射线杀菌设备。喷嘴式电子射线照射装置(1)包括：真空室(2)；电子射线发生器(3)，配置在该真空室(2)的内部；以及真空喷嘴(4)，与真空室(2)连接，引导来自电子射线发生器(3)的电子射线(E)并向外部照射。该喷嘴式电子射线照射装置(1)包括高真空泵(5)，该高真空泵(5)能够从真空室(2)中的与真空喷嘴(4)连接的部分的附近进行吸引。
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公开(公告)号：CN103966554B
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201410037012.1
申请日：2014-01-26
Applicant: 日立造船株式会社
Inventor： 大工博之
Abstract: 本发明提供能提高有机EL膜整体的厚度均等性的真空蒸镀装置和真空蒸镀方法。真空蒸镀装置包括:引导通道,输送利用蒸发源得到的蒸发材料;以及释放构件,向被蒸镀构件释放从引导通道流入的蒸发材料。释放构件包括:分散容器(7),用于扩散蒸发材料;以及多个喷嘴构件(8),朝向被蒸镀构件突出设置,且在前端具有用于向被蒸镀构件释放蒸发材料的收缩开口部。各喷嘴构件(8)具有喷嘴构件(8)的内直径(D)、喷嘴构件(8)的长度(L)和收缩开口部(8a)的直径(D’)。释放构件具有调整各喷嘴构件(8)的蒸发材料的流量的装置(13),以使各喷嘴构件(8)的蒸发材料的流量为规定值。喷嘴构件(8)的内直径(D)(mm)、喷嘴构件(8)的长度(L)(mm)和收缩开口部的直径(D’)(mm)满足关系式:L≥9D且D’≤2.7D/L,或者L
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公开(公告)号：CN104561903A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201410520985.0
申请日：2014-09-30
Applicant: 日立造船株式会社
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种提高蒸镀材料的利用效率的真空蒸镀装置用岐管。该真空蒸镀装置用岐管是联机式真空蒸镀装置用岐管，在单一岐管(11)的与基板(12)相对的基板对置面(11a)上设置有喷嘴列(14F、14R)，上述喷嘴列(14F、14R)沿基板(12)的宽度方向隔开规定的喷嘴间距(P)突出设置多个具有喷嘴口的喷出用喷嘴(13)，并且将喷嘴列(14F、14R)在基板(12)的移动方向上隔开规定的喷嘴列间隔(Lp)进行配置，基板(12)移动方向后方的喷嘴列(14R)的喷出用喷嘴(13)与基板(12)移动方向前方的喷嘴列(14F)的喷出用喷嘴(13)在基板(12)的移动方向上相对配置。
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公开(公告)号：CN103966554A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410037012.1
申请日：2014-01-26
Applicant: 日立造船株式会社
Inventor： 大工博之
Abstract: 本发明提供能提高有机EL膜整体的厚度均等性的真空蒸镀装置和真空蒸镀方法。真空蒸镀装置包括：引导通道，输送利用蒸发源得到的蒸发材料；以及释放构件，向被蒸镀构件释放从引导通道流入的蒸发材料。释放构件包括：分散容器(7)，用于扩散蒸发材料；以及多个喷嘴构件(8)，朝向被蒸镀构件突出设置，且在前端具有用于向被蒸镀构件释放蒸发材料的收缩开口部。各喷嘴构件(8)具有喷嘴构件(8)的内直径(D)、喷嘴构件(8)的长度(L)和收缩开口部(8a)的直径(D’)。释放构件具有调整各喷嘴构件(8)的蒸发材料的流量的装置(13)，以使各喷嘴构件(8)的蒸发材料的流量为规定值。喷嘴构件(8)的内直径(D)(mm)、喷嘴构件(8)的长度(L)(mm)和收缩开口部的直径(D’)(mm)满足关系式：L≥9D且D’≤2.7D2/L，或者L
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公开(公告)号：CN102373434A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201010260662.4
申请日：2010-08-20
Applicant: 日立造船株式会社
Abstract: 本发明公开了一种蒸镀装置，本发明中，即使相对于基板(12)的蒸镀速度大幅改变，也能够高精度地检测相对于蒸镀速度检测元件(33)的蒸镀速度，恰当地进行蒸镀速度的控制。在真空状态的成膜室(11)内，将具有多个蒸镀喷嘴(15)的分散容器(14)与基板(12)相向地配置，在该分散容器(14)上贯穿设置着检测喷嘴(32)，且与检测喷嘴(32)相向地配置着蒸镀速度检测元件(33)，设置了使蒸镀速度检测元件(33)相对于检测喷嘴(32)的放出口(32a)接近、离开的蒸镀速度调整机构(34)，通过与相对于基板(12)的蒸镀速度对应地调整检测喷嘴(32)的放出口(32a)和蒸镀速度检测元件(33)的距离(L)，在蒸镀速度检测元件(33)高精度地检测蒸镀速度。
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