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公开(公告)号：CN104203497A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201380009222.3
申请日：2013-02-14
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
CPC classification number: C09K3/1463 , B24B57/02 , C02F11/14 , C02F2103/12
Abstract: 本发明的课题在于提供一种研磨材料再生方法，可以通过有效的方法由使用过的研磨材料回收研磨材料，然后通过简易的方法得到高纯度的再生研磨材料。本发明的研磨材料再生方法是由使用过的研磨材料浆料再生该研磨材料浆料所含的研磨材料的研磨材料再生方法，该研磨材料为选自金刚石、氮化硼、碳化硅、氧化铝、氧化铝-氧化锆及氧化锆的至少一种研磨材料，且经由下述工序A～C再生研磨材料，回收从研磨机排出的研磨材料浆料的浆料回收工序A；向回收的研磨材料浆料添加作为无机盐的碱土金属盐使研磨材料凝聚，并将该研磨材料从母液分离浓缩的分离浓缩工序B及回收该分离浓缩的研磨材料的研磨材料回收工序C。
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公开(公告)号：CN117701251A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311166911.7
申请日：2023-09-11
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明的课题在于提供使使用过的研磨剂浆料中含有的被研磨物的构成成分的除去率提高的研磨剂浆料的再生方法等。本发明的研磨剂浆料的再生方法是从含有研磨剂成分和被研磨物的构成成分的使用过的研磨剂浆料中除去所述被研磨物的构成成分而回收所述研磨剂成分、使研磨剂浆料再生的研磨剂浆料的再生方法，其特征在于，至少具有：将从研磨机排出的所述使用过的研磨剂浆料回收的工序、使在所述使用过的研磨剂浆料中溶解的金属离子钝化的工序、使所述使用过的研磨剂浆料中含有的所述研磨剂成分和所述被研磨物的构成成分分散的工序、使被分散的所述研磨剂成分与所述被研磨物的构成成分分离的工序、和制备含有所述研磨剂成分的再生研磨剂浆料的工序。
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公开(公告)号：CN113365781B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN201980088075.0
申请日：2019-12-24
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: B24B57/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题是，提供一种研磨剂的再生方法以及研磨剂回收处理系统，其可以从化学强化玻璃的研磨中使用的加工后的研磨剂浆料中有效地除去含有K2O的玻璃成分，并有效地分离被研磨物、提高研磨速度稳定性和防止研磨物划痕等导致的品质降低。本发明的研磨剂的再生方法是从研磨剂浆料中，除去被研磨物的构成成分，对研磨剂进行回收、再生的研磨剂的再生方法，其至少依次包括：研磨加工工序、研磨剂浆料供给工序、研磨剂浆料回收工序、沉降分离浓缩工序，其中，向所述研磨剂浆料供给工序中的K2O浓度在0.05～1.0质量％的范围内的研磨剂浆料，在所述研磨剂浆料回收工序或所述沉降分离浓缩工序中，添加水稀释至5～50倍。
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公开(公告)号：CN115990838A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202211284381.1
申请日：2022-10-17
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供研磨剂浆料的再生方法及研磨剂浆料的再生系统，其在实施从玻璃的研磨加工等中使用的使用过的研磨剂浆料中进行被研磨物的构成成分(玻璃成分)的除去的研磨剂再生处理时，含有氧化铈的磨粒成分与被研磨物的构成成分(玻璃成分等)的分离性优异。本发明的研磨剂浆料的再生方法的特征在于，具备：第一工序，其包括：回收从研磨机排出的使用过的研磨剂浆料的浆料回收工序、使上述回收的研磨剂浆料的离子浓度降低的脱盐处理工序、和向上述脱盐处理了的研磨剂浆料添加pH调节剂及分散剂而将研磨剂成分和被研磨物的构成成分分散的分散处理工序；和第二工序，其中，在上述第一工序后，使研磨剂成分与被研磨物的构成成分分离，由上述研磨剂成分制备再生研磨剂浆料。
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公开(公告)号：CN113365781A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201980088075.0
申请日：2019-12-24
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: B24B57/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题是，提供一种研磨剂的再生方法以及研磨剂回收处理系统，其可以从化学强化玻璃的研磨中使用的加工后的研磨剂浆料中有效地除去含有K2O的玻璃成分，并有效地分离被研磨物、提高研磨速度稳定性和防止研磨物划痕等导致的品质降低。本发明的研磨剂的再生方法是从研磨剂浆料中，除去被研磨物的构成成分，对研磨剂进行回收、再生的研磨剂的再生方法，其至少依次包括：研磨加工工序、研磨剂浆料供给工序、研磨剂浆料回收工序、沉降分离浓缩工序，其中，向所述研磨剂浆料供给工序中的K2O浓度在0.05～1.0质量％的范围内的研磨剂浆料，在所述研磨剂浆料回收工序或所述沉降分离浓缩工序中，添加水稀释至5～50倍。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110065006A
公开(公告)日：2019-07-30
申请号：CN201910284971.6
申请日：2013-07-24
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中得到高纯度的再生研磨材料。研磨材料是选自氧化铈、金刚石、氮化硼、碳化硅、氧化铝、氧化铝-氧化锆以及氧化锆中的至少一种，且经由下述工序A～D从研磨材料浆料中再生研磨材料，即，回收包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料的浆料回收工序A；向该回收的研磨材料浆料添加含有碱土金属元素的金属盐，使研磨材料凝聚，从母液分离该研磨材料并进行浓缩的分离浓缩工序B；将分离浓缩了的研磨材料固液分离并回收的研磨材料回收工序C以及用磁性过滤器过滤去除混入研磨材料浆料的金属元素粒子的过滤工序D，并且工序D在工序A～C中任意一项工序之后或者与工序B或工序C同时进行。
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公开(公告)号：CN104023915A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280065120.9
申请日：2012-12-17
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
CPC classification number: C09K3/1409 , B01D11/0246 , B01D21/02 , B01D2221/14 , B24B57/02 , B28D5/007 , C02F1/5209 , C02F1/5236 , C09K3/14 , Y02P70/179 , B24B57/00
Abstract: 本发明的课题在于提供能够从以氧化铈为主成分的使用过的研磨材料中以有效且经济性优异的方法分离、回收氧化铈的研磨材料分离方法及通过该分离方法得到的再生研磨材料。本发明的研磨材料分离方法是从含有氧化铈的使用过的研磨材料浆料中分离氧化铈研磨材料的方法，其中，该方法包括：一边对该使用过的研磨材料浆料在10～70℃的范围内进行温度控制、一边添加2价碱土金属盐，在母液换算成25℃的pH值低于10.0的条件下使研磨材料凝聚，从而从母液中分离该研磨材料。
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公开(公告)号：CN104010770A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201280063306.0
申请日：2012-12-05
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
CPC classification number: C09K3/1409 , B24B57/00 , B24B57/02 , B28D5/007 , C02F1/5236 , C02F1/66 , C02F2101/10 , C02F2103/12 , C02F2103/346 , Y02P70/179
Abstract: 本发明提供一种研磨材料再生方法及再生研磨材料，所述研磨材料再生方法可以用高效的方法由以氧化铈为主要成分的使用后的研磨材料回收氧化铈，然后，用简易的方法得到再生研磨材料。本发明的研磨材料再生方法是由使用过的研磨材料浆料再生氧化铈研磨材料的研磨材料再生方法，所述使用过的研磨材料浆料是研磨硅为主要成分的被研磨物而得到的，且含有氧化铈研磨材料，其中，该方法经如下工序再生含有氧化铈的研磨材料：浆料回收工序A，回收从研磨机排出的研磨材料浆料；分离浓缩工序B，向该回收的研磨材料浆料中添加作为无机盐的镁盐，在母液换算成25℃的pH值为6.5以上且低于10.0的条件下使研磨材料凝聚，将该研磨材料从母液中分离并进行浓缩；以及研磨材料回收工序C，回收该分离并进行了浓缩的研磨材料。
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公开(公告)号：CN115443206A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202180030565.2
申请日：2021-04-12
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: B24B37/005 , B24B37/013 , B24B49/08 , H01L21/304 , B23Q17/00 , B23Q17/09
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够简单且精度良好地对被研磨物的研磨量进行测量的研磨系统。本发明的研磨系统是使用研磨剂浆料对被研磨物进行研磨的研磨系统，其特征在于，具有研磨量计算工序部，该研磨量计算工序部对来源于完成加工浆料中被研磨物的、元素周期表第一主族或第二主族的金属元素的游离金属离子的量进行测定，根据所述游离金属离子的量来计算所述被研磨物的研磨量。
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公开(公告)号：CN115305056A
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210485071.X
申请日：2022-05-06
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明的课题在于提供研磨速度的降低少且划痕、腐蚀的产生少的再生研磨剂浆料的制备方法和研磨剂浆料。本发明的再生研磨剂浆料的制备方法的特征在于，使用含有氧化铈研磨剂和分散剂的基准研磨剂浆料研磨硅为主成分的被研磨物后，由使用完毕的研磨剂浆料制备再生研磨剂浆料，其中，经过浆料回收工序、分离浓缩工序和研磨剂再生工序来制备再生研磨剂浆料，所述研磨剂再生工序是通过在该分离浓缩后的上述氧化铈研磨剂中添加pH调节剂和上述分散剂从而调整再生研磨剂浆料以使得25℃换算的pH值在6.0～10.5的范围内并使电导率的值相对于上述基准研磨剂浆料在0.10～10.00倍的范围内。
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