公开(公告)号：CN117794687A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202280054195.0

申请日：2022-08-01

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 砂山梓纱 ,  加藤充 ,  竹越穣

IPC: B24B37/26 ,  B24B37/24 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明为一种抛光垫，其具备具有圆形的抛光面的抛光层，并且具备从抛光面的中央区域遍及至周缘区域而形成的螺旋状槽或由配置成同心圆状的多个环状槽形成的同心圆状槽、和由从中央区域向周缘区域延伸的线段状槽形成的放射状槽。而且，线段状槽在从放射状槽中心起相对于抛光面的半径为5～10％的距离的区域具有第1端部，在从放射状槽中心起相对于抛光面的半径为35～70％的距离的区域具有第2端部，线段状槽具有相对于抛光面的半径为30～65％的比例的平均长度。而且，线段状槽的截面积Sa(mm2)与螺旋状槽或同心圆状槽的截面积Sb(mm2)满足0.1≤Sb/Sa＜1.0。

公开(公告)号：CN109478507B

公开(公告)日：2023-01-10

申请号：CN201780043880.2

申请日：2017-07-26

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 竹越穣 ,  加藤充 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/24 ,  C08J5/14

Abstract: 本发明提供一种具有在pH10.0下的zeta电位为+0.1mV以上的抛光面的抛光垫。优选提供一种含有具有叔胺的聚氨酯的抛光垫。进一步优选具有叔胺的聚氨酯为至少含有具有叔胺的扩链剂的聚氨酯反应原料的反应物。另外，提供一种一边供给使用了这些抛光垫的碱性抛光浆料一边进行的抛光方法。

公开(公告)号：CN113039041A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN201980075650.3

申请日：2019-09-03

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 加藤充 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/22 ,  C08G18/48 ,  C08G18/76 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种抛光层用聚氨酯、使用其的抛光层及抛光垫，所述抛光层用聚氨酯具有由下述式(I)表示的末端基团，R－(OX)n－···(I)[式(I)中，R表示碳原子数1～30的一价烃基，该一价烃基任选被杂原子取代、任选夹杂有杂原子，X表示90～100％为亚乙基的碳原子数2～4的亚烷基，n表示8～120的数]。

公开(公告)号：CN112839985A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201980067771.3

申请日：2019-11-01

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 砂山梓纱 ,  加藤充 ,  竹越穰 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: C08J7/12 ,  C08G18/34 ,  C08G18/38 ,  C08G18/65 ,  B24B37/24 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供具有羧酸酯基的抛光层用聚氨酯，优选使用在侧链、主链末端及主链骨架中的至少一者具有羧酸酯基的聚氨酯。另外，本发明提供一种抛光层的改性方法，该方法包括：准备包含具有羧酸酯基的聚氨酯的抛光层的工序；以及使聚氨酯的羧酸酯基水解而生成羧酸基的工序。

公开(公告)号：CN110573547A

公开(公告)日：2019-12-13

申请号：CN201880024840.8

申请日：2018-04-27

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 大下梓纱 ,  竹越穰 ,  加藤充 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: C08G18/65 ,  H01L21/304 ,  B24B37/24

Abstract: 本发明提供作为具有席夫碱的二醇或其衍生物的含席夫碱的扩链剂，另外，还提供使用其制造的聚氨酯及其改性方法、包含聚氨酯的抛光层、使用了该抛光层的抛光方法。

公开(公告)号：CN118574699A

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202380019151.9

申请日：2023-01-31

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 砂山梓纱 ,  合志佑有子 ,  加藤充

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/00 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明涉及包含聚氨酯的抛光层、具备该抛光层的抛光垫及其制造方法、以及使用该抛光垫的抛光方法，上述聚氨酯在50℃的水中饱和溶胀后在拉伸速度50mm/min时的断裂伸长率小于100%。

公开(公告)号：CN118019616A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202280064669.X

申请日：2022-09-22

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 合志佑有子 ,  加藤充 ,  杉冈尚

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/76 ,  C08J5/14 ,  C08L75/04 ,  C08L101/12 ,  H01L21/304

Abstract: 一种抛光垫，其包含抛光层，该抛光层是聚氨酯组合物的成型体，其中，聚氨酯组合物含有：包含非脂环式二异氰酸酯单元作为有机二异氰酸酯单元的热塑性聚氨酯90～99.9质量％、和吸湿性高分子0.1～10质量％，成型体具有利用基于JIS K 7215的D型硬度计得到的60以上且小于75的硬度。

公开(公告)号：CN112105667B

公开(公告)日：2023-01-10

申请号：CN201980031163.7

申请日：2019-04-26

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 大下梓纱 ,  加藤充 ,  竹越穣 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: C08G18/83 ,  B24B37/24 ,  C08G18/67 ,  C08G18/68 ,  C08G18/69 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明使用包括准备具有烯属不饱和键的聚氨酯的工序、以及用含有具有共轭双键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法，或者使用包括准备具有共轭双键的聚氨酯的工序、以及用含有具有烯属不饱和键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法。

公开(公告)号：CN114787225A

公开(公告)日：2022-07-22

申请号：CN202080085452.8

申请日：2020-12-10

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 砂山梓纱 ,  高冈信夫 ,  服部和正 ,  林浩一 ,  加藤充 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: C08G18/34 ,  B24B37/24 ,  C08G18/65 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供构成能够抑制堵塞、能够抑制损伤的发生并且能够稳定地以长寿命进行抛光的抛光层的聚氨酯、使用了该聚氨酯的抛光层、及抛光垫、以及抛光方法。本发明的聚氨酯具有至少1个以上的来自具有羧基的化合物的结构单元。另外，本发明还提供使用了该聚氨酯的抛光层、抛光垫、以及抛光方法。

公开(公告)号：CN114286737A

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN202080039388.X

申请日：2020-06-04

Applicant: 株式会社可乐丽

Inventor： 加藤充 ,  菊池博文 ,  冈本知大 ,  加藤晋哉

IPC: B24B37/24 ,  B24B37/26 ,  B24B53/017 ,  H01L21/304

Abstract: 一种研磨垫，其包括具有研磨面的研磨层，研磨面具备：深槽区域，其具有由深度0.3mm以上的深槽或孔形成的第一图案；台面区域，其是除深槽区域以外的区域；台面区域具有：深度0.01～0.1mm的浅凹陷，其具有第二图案；多个岛状的台面部，其由浅凹陷包围，且水平方向的最大距离为8mm以下。