半导体叠层用粘接剂组合物

    公开(公告)号:CN105579546B

    公开(公告)日:2019-02-22

    申请号:CN201480052923.X

    申请日:2014-09-25

    Abstract: 本发明提供一种半导体叠层用粘接剂组合物,其在涂布后,通过加热干燥,在低于50℃时不具有粘接性,通过在可抑制半导体芯片损伤的温度下的加热而显现粘接性,然后,迅速地固化而形成粘接剂层。本发明的半导体叠层用粘接剂组合物含有聚合性化合物(A)、阳离子聚合引发剂(B1)及/或阴离子聚合引发剂(B2)及溶剂(C)。聚合性化合物(A):含有80重量%以上的软化点或熔点为50℃以上的环氧化合物;阳离子聚合引发剂(B1):在3,4‑环氧环己基甲基(3,4‑环氧)环己烷羧酸酯100重量份中添加1重量份而得到的组合物在130℃下的热固化时间为3.5分钟以上;阴离子聚合引发剂(B2):在双酚A二缩水甘油醚100重量份中添加1重量份而得到的组合物在130℃下的热固化时间为3.5分钟以上。

    固化性组合物、粘接片、固化物、叠层物、粘接片的制造方法及装置

    公开(公告)号:CN107683299A

    公开(公告)日:2018-02-09

    申请号:CN201680035123.6

    申请日:2016-06-13

    Abstract: 提供一种固化性组合物,其可以通过进行固化而形成相对于被粘接体的粘接性及密合性优异的固化物。一种固化性组合物,其含有下述式(X)表示的化合物(A)或聚合稳定剂(B),并含有聚有机倍半硅氧烷,(X)[r1:4~20的整数。L:含有环氧基、氧杂环丁烷基或乙烯基醚基的基团。R11、R12:任选具有取代基的烃基。s1:1~3的整数。t1:0~2的整数(s1+t1=3)。R13、R14:氢原子或任选具有取代基的烃基]、所述聚有机倍半硅氧烷为数均分子量1000~3000、分子量分散度1.0~3.0,具有下述式(1)表示的结构单元、下述式(I)表示的结构单元和下述式(II)表示的结构单元的比例为5以上,相对于硅氧烷结构单元的总量,下述式(1)表示的结构单元及下述式(4)表示的结构单元的比例为55~100摩尔%。[R1SiO3/2](1)[RaSiO3/2](I)[RbSiO2/2(ORc)](II)[R1SiO2/2(ORc)](4)[R1:含有环氧基的基团。Ra、Rb:含有环氧基的基团、取代或无取代的芳基、取代或无取代的芳烷基、取代或无取代的环烷基、取代或无取代的烷基、取代或无取代的烯基、或者氢原子。Rc:氢原子或碳原子数1~4的烷基。]。

    粘接剂
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105637048A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201480055928.8

    申请日:2014-10-06

    Abstract: 本发明提供一种粘接剂、及使用了所述粘接剂的被粘着物的加工方法,所述粘接剂在需要固定时,即使在高温环境下也可发挥较强的粘接性而粘接·固定被粘着物,若不需要固定,则可不使被粘着物破损、且没有残胶地进行剥离。本发明的粘接剂含有多元乙烯基醚化合物(A)、下述式(b)所示的化合物(B)和/或具有2个以上下述式(c)所示的结构单元的化合物(C)。[化学式1][化学式2]。

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