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公开(公告)号:CN108351605A
公开(公告)日:2018-07-31
申请号:CN201780003811.9
申请日:2017-01-31
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/20 , H01L21/033 , G03F7/004 , G03F7/26
Abstract: 本申请涉及一种膜掩模、该膜掩模的制备方法、使用所述膜掩模的图案形成方法、以及使用所述膜掩模形成的图案,所述膜掩模包括:透明基板;设置在所述透明基板上的暗化光屏蔽图案层;以及在所述透明基板的设置有暗化光屏蔽图案层的表面上设置的浮凸图案部。
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公开(公告)号:CN107250905A
公开(公告)日:2017-10-13
申请号:CN201680010976.4
申请日:2016-05-02
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133502 , G02F1/1337 , G02F1/134309 , G02F1/134363 , G02F1/13439 , G02F1/136286 , G02F2001/136222 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F1/1362
Abstract: 本发明涉及一种液晶显示装置,包括:基板;以及减光反射层,该减光反射层设置在线电极如栅电极、源电极、漏电极、栅极线和数据线的至少一个的一个表面上。因此,本发明可以控制由线电极引起的光反射,从而改善可视性的降低,并且实现高清晰度显示器。
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公开(公告)号:CN106662951A
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201580047437.3
申请日:2015-09-04
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本申请涉及一种触摸屏及其制造方法。根据本申请的实施例的触摸屏包括:驱动电极单元,包括设置在第一基板上的驱动电极图案(Tx图案);以及检测电极单元,包括设置在第二基板上的检测电极图案(Rx图案),其中所述驱动电极图案和所述检测电极图案包括导电金属线,并且所述驱动电极图案的节距短于所述检测电极图案的节距。
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公开(公告)号:CN115997161A
公开(公告)日:2023-04-21
申请号:CN202180041664.0
申请日:2021-07-22
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/13363
Abstract: 本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置:其具有优异的光学特性例如透射率可变性和机械特性,并且控制黑色模式下在所有方向上的光泄露,并因此可以用于各种应用。所述光调制装置包括在第一基底与第二基底之间的光调制层,并且包括形成在第一基底或第二基底的表面上并且对于波长为550nm的光的面内延迟在100nm至300nm的范围内的相位延迟器膜。
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公开(公告)号:CN111033372B
公开(公告)日:2022-10-21
申请号:CN201880050289.4
申请日:2018-07-27
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333
Abstract: 本申请涉及其上以特定排列状态设置有间隔物的基板和使用这样的基板的光学装置。在本申请中,复数个间隔物根据预定规则不规则地设置在基板上,使得在间隔物保持光学装置构造中的均匀的单元间隙的同时,可以确保整体均匀的光学特性而不引起所谓的莫尔现象等。
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公开(公告)号:CN107407846B
公开(公告)日:2021-10-29
申请号:CN201680015775.3
申请日:2016-05-09
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/136 , H01L27/12 , G02F1/1368 , G02B1/11
Abstract: 公开了薄膜晶体管基底和包括其的显示装置。薄膜晶体管基底包括:栅电极;源电极;漏电极;和设置在面向栅极线和数据线基底的表面以及与其相反的表面上的光反射减少层,其中光反射减少层满足以下[式1]:(k×t)/λ的0.004至0.22的值(其中k意指光反射减少层的消光系数;t意指光反射减少层的厚度;并且λ意指光的波长)。
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公开(公告)号:CN110770646A
公开(公告)日:2020-02-07
申请号:CN201880039546.4
申请日:2018-06-29
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G02F1/1339
Abstract: 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中,通过控制形成在基板上的间隔物的形状,即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时,也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响,由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。
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