对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置

    公开(公告)号:CN1821883A

    公开(公告)日:2006-08-23

    申请号:CN200610037797.8

    申请日:2006-01-12

    IPC分类号: G03F7/20 H01L21/027

    摘要: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法,采用大功率激光器作为光源,将激光束准直成平行光,经过光阑及透镜后,由分束元件产生分束光束,再会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作,其特征在于:所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频,所述光阑为可调矩形光阑,在同一位置进行单次脉冲加工,控制激光器的功率,使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化,在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统,从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段,是一种微米级结构的先进制造技术。

    一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法

    公开(公告)号:CN1837992A

    公开(公告)日:2006-09-27

    申请号:CN200610038418.7

    申请日:2006-02-16

    IPC分类号: G03H1/04

    摘要: 本发明公开了一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法及其装置,包括下列步骤:(1)制备一种具有正交光点输出的光学元件;(2)构建一个4F光学系统,将步骤(1)获得的光学元件放置在其变换平面上,作为分束元件,使得入射光被分成四束光,经透镜组成像后,在记录材料表面形成干涉条纹单元,所述激光光源采用短相干长度的激光器;(3)改变光学系统与记录材料的相对位置,在记录材料上分别记录步骤(2)获得的干涉条纹单元,逐点光刻出点阵素面光栅。本发明大大降低了制作大幅面点阵素面彩虹光变图像的技术要求;同时可以获得不同衍射效果的点阵素面彩虹图像的效果,还可与数字化光变图像相互镶嵌。

    微光变图像的激光直写方法及装置

    公开(公告)号:CN1786749A

    公开(公告)日:2006-06-14

    申请号:CN200510095776.7

    申请日:2005-11-17

    IPC分类号: G02B5/18 G02F1/35 G02B27/00

    摘要: 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置,包括:(1)构建低空频光栅数字模板,以光栅取向角度等间隔分布,对每一单元光栅用数据结构表达,记录在计算机数据库中;(2)根据所需刻制的微光变图像,从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构,利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上,形成缩小单元像;(3)改变光路和记录介质的相对位置,变换对应空频和取向的光栅图样,重复步骤(2),依次刻录各个光栅单元,获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法,整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向,只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元,输入SLM上即可实现光栅线条的旋转,因此,精度高。

    对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置

    公开(公告)号:CN100495215C

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200610037797.8

    申请日:2006-01-12

    IPC分类号: G03F7/20 H01L21/027

    摘要: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法,采用大功率激光器作为光源,将激光束准直成平行光,经过光阑及透镜后,由分束元件产生分束光束,再会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作,其特征在于:所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频,所述光阑为可调矩形光阑,在同一位置进行单次脉冲加工,控制激光器的功率,使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化,在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统,从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段,是一种微米级结构的先进制造技术。

    一种亚波长光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101290371A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810123710.8

    申请日:2008-05-30

    IPC分类号: G02B5/30 G03F7/00

    摘要: 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述透明基底和介质光栅之间,设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。通过在透明基底和介质光栅之间增加高折射率介质层,提高了偏振片的TM光的透射效率和消光比。在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。在工艺上,采用纳米压印技术加工制作,制作过程简便易操作,不需要刻蚀工艺,降低了加工成本。

    一种彩色滤光片的制作方法与装置

    公开(公告)号:CN101290364A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810123711.2

    申请日:2008-05-30

    IPC分类号: G02B5/23 G02B27/09 B41M5/382

    摘要: 本发明公开了彩色滤光片的制作方法及装置。制作方法为:分别获取载有颜色层的四种热转印薄膜;将一种热转印薄膜贴合在彩色滤光片的基片表面,根据画素的排列位置,采用矩形激光束瞬间照射热转印薄膜的对应位置,使得热转印薄膜的颜色层转移到基片表面,调整照射位置并重复上述过程,实现同一颜色的所有画素单元的转移;更换热转印薄膜,重复上述步骤,使四种颜色均实现转移,获得所需的彩色滤光片。本发明整个过程中基片相对位置不发生变化,解决了传统方式需要高精度对位的问题,并可通过激光光点尺寸来控制画素图案的大小;同时该方法适用于柔性彩色滤光片的制作。

    一种消色差变色银衍射图像的制作方法

    公开(公告)号:CN100371771C

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200610038417.2

    申请日:2006-02-16

    IPC分类号: G02B27/42

    摘要: 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法,包括下列步骤:(1)制备一种二元光学元件,其远场衍射光场是一条狭缝;(2)构建一个4F光学系统,将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上,作为分束元件,使得入射光被分成两个条形光场,经透镜组成像后,在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元;(3)改变光学系统与记录材料的相对位置,在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元,获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法,使消色差变色银衍射图像进入实用,可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果,以解决环保问题。

    一种导光板/导光膜模仁的制造方法

    公开(公告)号:CN101034183A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200710038827.1

    申请日:2007-03-30

    摘要: 本发明公开了一种导光板/导光膜模仁的制造方法,根据导光的需求,在导光基材表面制备形成导光网点结构,其特征在于:利用大功率脉冲激光器,经光束整形、准直聚焦直接在导光基材表面刻蚀导光网点,获得导光板基体,对刻蚀后的导光板基体表面进行金属化处理,再进行电铸,在表面沉积金属镍,将沉积的金属镍与导光基材分离,即获得所需的导光板/导光膜模仁。同时刻蚀后制得的导光板基体可直接用于背光模组,配置其他背光组件,可进行导光性能检测。本发明可快速进行网点设计评价和提供样品,在进行金属化处理和电铸工序后,即可制得导光板(膜)模仁,大大缩短了制作周期,简化了工艺过程,降低了成本,具有更快的市场反应能力。

    一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法

    公开(公告)号:CN101016634A

    公开(公告)日:2007-08-15

    申请号:CN200610155974.2

    申请日:2006-12-30

    摘要: 本发明公开了一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法,包括下列步骤:(1)在金属滚筒上涂布光刻胶,在光刻胶上制作微结构掩膜,通过显影去除感光部分至露出金属表层;(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中,连接至电源阴极,进行金属电沉积,沉积厚度为150~500纳米;(3)从电铸溶液中取出金属滚筒,去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。本发明通过光刻与电铸的结合实现了具有表面浮雕结构的金属滚筒的制作,不需要进行平版卷绕拼接,不会产生拼缝,且可以获得高硬度的浮雕微结构,因而特别适用于高速连续滚动式模压复制;同时,金属光栅深度可以得到控制。