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公开(公告)号：CN101290364A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810123711.2
申请日：2008-05-30
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 陈林森 , 周小红
摘要： 本发明公开了彩色滤光片的制作方法及装置。制作方法为：分别获取载有颜色层的四种热转印薄膜；将一种热转印薄膜贴合在彩色滤光片的基片表面，根据画素的排列位置，采用矩形激光束瞬间照射热转印薄膜的对应位置，使得热转印薄膜的颜色层转移到基片表面，调整照射位置并重复上述过程，实现同一颜色的所有画素单元的转移；更换热转印薄膜，重复上述步骤，使四种颜色均实现转移，获得所需的彩色滤光片。本发明整个过程中基片相对位置不发生变化，解决了传统方式需要高精度对位的问题，并可通过激光光点尺寸来控制画素图案的大小；同时该方法适用于柔性彩色滤光片的制作。
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公开(公告)号：CN101377555B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810156773.3
申请日：2008-09-26
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
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公开(公告)号：CN101131537B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101131537A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101100156A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710025250.0
申请日：2007-07-20
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 公安部交通管理科学研究所
摘要： 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。
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公开(公告)号：CN101034252A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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公开(公告)号：CN101030028A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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公开(公告)号：CN1834731A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610038417.2
申请日：2006-02-16
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G02B27/42
摘要： 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法，包括下列步骤：(1)制备一种二元光学元件，其远场衍射光场是一条狭缝；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成两个条形光场，经透镜组成像后，在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元，获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法，使消色差变色银衍射图像进入实用，可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果，以解决环保问题。
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公开(公告)号：CN100495215C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要： 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号：CN101290371A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810123710.8
申请日：2008-05-30
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述透明基底和介质光栅之间，设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。通过在透明基底和介质光栅之间增加高折射率介质层，提高了偏振片的TM光的透射效率和消光比。在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。在工艺上，采用纳米压印技术加工制作，制作过程简便易操作，不需要刻蚀工艺，降低了加工成本。
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